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勻膠顯影機 型號：SC100-DE
SC100-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作，又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設備，它可以實現價值百萬美元設備（track）的上才可能達到穩定性和均勻性。
主要性能指標：
主機機箱采用不銹鋼材料（抗化學腐蝕易清潔）
旋涂程序：zui多可存100組程序，每組100步，每個步驟可到0.1秒
轉動速度：0-10,000rpm（更高速可選）
旋涂加速度：0-50,000rpm/sec（空載）
馬達旋涂轉速穩定性能誤差 < ±1rpm
轉速調節精度<1rpm，重復性< 1rpm
工藝時間設定： 0-3,000 sec/step，時間設置精度：0.1sec
支持wafer尺寸1cm-200mm（8“圓晶）
標準配置兩路噴液系統（顯影液和去離子水）
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