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在真空環(huán)境下對(duì)高速等離子體鍍層過程反射率的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)是光譜學(xué)測(cè)量的一項(xiàng)應(yīng)用。
Avantes對(duì)在真空環(huán)境下測(cè)量有著豐富的經(jīng)驗(yàn)，并提供各種儀器和配件以滿足真空光譜學(xué)的需要。這些技術(shù)經(jīng)常用于點(diǎn)檢測(cè)等復(fù)雜的過程控制監(jiān)控。可以對(duì)一個(gè)峰值或一定的波長(zhǎng)范圍進(jìn)行監(jiān)測(cè)，以檢測(cè)出一個(gè)在過程結(jié)束時(shí)光譜偏移帶來的拐點(diǎn)。在進(jìn)行高真空(~10-3 torr)和超高真空(~10−9 torr)測(cè)量時(shí)，需要特別注意所選用的光譜儀和光纖。Avantes對(duì)在真空環(huán)境下測(cè)量有著豐富的經(jīng)驗(yàn)，并提供各種儀器和配件以滿足真空光譜學(xué)的需要。
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