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熒光濾光片產品一般是采用蒸發鍍膜制成的，濾光片的膜層會產生柱狀結果，因此膜層容易受到外界的環境的影響而產生變換。
波長漂移還受到吸附潮氣而影響，薄膜的折射率隨吸附潮氣而變化，水汽進入膜內后，膜層的平均折射率提高，膜層的光學厚度增加，導致光學曲線向長波移動，發生波長漂移，窄帶濾光片和截止濾光片的吸潮波長漂移現象尤為明顯。
熒光濾光片質量好壞，直接影響儀器的靈敏度高低，而濾光片的質量又是以其波長精度及其峰值指標來衡量的，因此濾光片波長精度及峰值是衡量光學儀器的重要參數之一，這在廠家的儀器說明書中雖未曾提及，但在儀器的實際使用過程中，我們發現對波長精度和峰值進行檢查是重要的也是必要的，通過檢查可以發現濾光片的波長標定值與實測值的符合程度，可以發現濾光片的質量是否符合要求。
熒光濾光片膜層厚度的均勻性是指膜厚隨著基板表面位置變化而變化的情況。膜厚均勻性不好，膜系特性會遭到嚴重的破壞，所以薄膜厚度的均勻性如同薄膜厚度監控一樣是一個重要的課題。
對于不同的薄膜往往有不同的均勻性要求。對單層MgF2減反射膜，若膜厚為λ0/4（λ0=520nm），則均勻性誤差一般不得超過40nm，否則就會在同一基板上出現不同顏色。要求嚴格的是熒光濾光片，其均勻性誤差所引起的整個濾光片表面上的峰值波長變化不能大于半寬度的0.3倍。對于一個直徑不大于50mm、在可見光區半寬度不小于20nm的濾光片，這個要求不算太高，但是對于更大直徑和更窄半寬度的濾光片問題就非常突出。對截止陡度要求很高的截止濾光片也是同樣，均勻性不好將導致過渡性嚴重惡化。
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