井式坩堝爐主要用于金屬、非金屬及化合物材料進行燒結、融化、分析。控制面板配有智能溫度調節儀,控制電源開關、主加熱工作/停止按鈕,以便隨時觀察。
井式坩堝爐的用途:高校、科研院所、工礦企業主要用于煅燒真空或惰性氣體中的高純度化合物,退火或擴散半導體晶片,也可以用于烘燒或燒結陶瓷材料等。
井式坩堝爐的特點如下:
1、高品質慘鉬鐵鉻鋁合金作為發熱元件,可加熱到1200℃ 高純石英杯:205外徑x 190內徑x 340高mm
2、高精度不銹鋼針閥和真空表及真空法蘭可直接使用。
3、內置30段可編程精密數字溫度控制器可控制升降溫速率。
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