如何提高光學平臺系統的穩定性
隨著*的設備和工藝的發展,使納米量級的測量成為可能。例如,變相光學干涉儀測量物體的表面粗糙度,目前可以達到1納米的分辨率。在半導體領域,已生產出線寬在亞微米量級的集成電路,提出測量準確率小于50納米的精度要求。為了提高光學平臺系統的穩定性,我們可以從以下的幾個方面來著手。
1、將系統與振源隔離。
外界的振源來源很多,比如地面的自振,各種聲音等等。但是影響大的是各種低頻的振源,主要集中在10~100Hz頻率內。將系統與這些振源隔離可以有效的提高系統的穩定性。采用大阻尼的空氣彈簧支撐方式可以較好的將系統與振源隔離。
2、控制振動的作用。
將系統組裝成動態的剛性結構可以保證系統內部的相對穩定性,且可以降低在外界的影響下產生共振的幾率,提高系統的穩定性。
3、控制靜力矩的作用。
光學平臺的硬重比對于其共振頻率有著重要的影響。較高的硬重比可以提高平臺的共振頻率,從而降低其在外界影響下的振動。而且在外力作用下,具有較高硬重比的平臺可以在小的重量下產生小的變形,增加系統內部的剛性。內部采用蜂窩狀支撐結構的光學平臺可以充分的提高硬重比,達到提高系統性能的目的。
4、控制溫度變化。
隨著時間的延續,不規則溫度變化會造成漸漸的結構彎曲。減小溫度效應的關鍵在于控制環境減少溫度變化。例如,避免在平臺下放置散熱設備,隔絕熱源設備和硬件,如光源、火焰等。
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