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CVD石墨烯制備使用的時候需要注意哪些事情
本產品不僅可應用于氧化石墨在快速高溫下裂解制備石墨烯的工藝工程，還可應用于改性石墨熱處理制備膨脹石墨等專業領域
此儀器為用戶提供快速高溫、真空、可控氣氛的實驗環境，產品加熱元件采用紅外燈管，升溫速度快，節省時間。滑動法蘭和石英支架結構，方便式樣的裝載和卸載。循環水冷法蘭密封，可在熱處理工程中保證真空條件和氣氛保護，防止氧化發生。
CVD石墨烯制備雙溫區滑軌式CVD系統爐管內氣壓不可高于0.02MPa
當爐體溫度高于1000℃時，爐管內不可處于真空狀態，爐管內的氣壓需和大氣壓相當，保持在常壓狀態進入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊
石英管的長時間使用溫度＜1100℃
對于樣品加熱的實驗，不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關注壓力表的示數，若氣壓表示數大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發生（如爐管破裂，法蘭飛出等）。
產品特點：
1控制電路選用模糊PID程控技術，該技術控溫精度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單。
2氣路快速連接法蘭結構采用本公司*的知識產權設計,提高操作便捷性。
3中真空系統具有真空度上下限自動控制功能，高真空系統采用高壓強，耐沖擊分子泵
防止意外漏氣造成分子泵損壞，延長系統使用壽命。
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