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高光譜成像在藝術品鑒賞中的應用

來源:北京易科泰生態技術有限公司   2019年11月05日 10:59  

    文物/藝術品是歷史和時間的沉淀,更是創作者心神的凝聚,其中信息的透漏不只是浮于表象畫面深層細微的隱秘信息更具價值,更值得發掘。傳統文物/藝術品鑒賞是依附專家學識與豐富的經驗,但受學術水平的限制及人眼觀察的局限性,難免會存在主觀臆斷、憑空猜測的情況。并且書畫經常出現一些輕淡、隱匿信息,僅靠人力很難看出其中奧妙,難以充分解讀作品。

 

    高光譜成像分析技術具有無損、方便快捷客觀準確特點,可快速獲取文物/藝術深層次的珍貴信息,凸顯作品藝術性。目前該技術已廣泛用于文物/藝術品的鑒賞、鑒定和修復工作

    易科泰光譜成像與無人機遙感技術(西安)研究中心自成立以來專注于光譜成像技術的研發集成及技術推廣,憑借多年科研儀器技術研發集成經驗,引進非常先進的高光譜成像傳感器技術,充分將“圖譜合一”“光譜立方”應用到文物/藝術品鑒賞領域,為該領域提供全面高光譜成像應用方案

 

一、Specim高光譜產品特點

  • 靈活多樣化選配方案:可選配IQ智能手持式高光譜,或不同波段掃描式高光譜成像系統
  • 信噪比、高穩定性、高分辨率、高推掃成像速度
  • 內置程序自動進行黑白參考校準,無需額外手動執行校準命令
  • 配備400-2500nm全波段鹵素燈,無需更換光源
  • 俯視+側視視角,適合原位測量文物古跡
  • 可選配其他高光譜成像儀如SWIR、MWIR、LWIR等
  • 可選配超高分辨率RGB成像及顏色分析

二、高光譜成像儀選型

相機型號

IQ

FX10

PFD4K

sCMOS

FX17

SWIR

波段范圍(nm)

400-1000

900-1700

1000-2500

光譜分辨率(FWHM)

7nm

5.5nm

3.0nm

2.9nm

8nm

12nm

波段

204

224

768

946

224

288

空間分辨率

(像素)

512

1024

1775

2184

640

384

光圈值

F/1.7

F/1.7

F/2.4

F/2.4

F/1.7

F/2.0

信噪比

>400:1

600:1

 

 

1000:1

1050:1

幀頻

內置推掃

330

100

100

670

450

重量

1.3kg

1.26kg

2.7kg

>2.0kg

1.56kg

>14kg

三、藝術/文博應用案例

    如下為我中心利用光譜成像技術對中國繪畫作品進行鑒賞分析,從凸顯顏色分布、解析繪畫技法、提取隱秘信息等方面,充分展示了高光譜成像技術在藝術、文博領域的應用優勢。

(1)高光譜技術凸顯顏色分布

    中國書畫有粗狂寫意,也有細致入微,但是無論哪種風格,走筆或濃或淡、或濕或干必留痕跡。毛筆的走向和力度大小是表畫家情感的重要方式,學習和分析一位畫家風格流派,筆墨技法是重中之重。

  

    如上左圖為RGB圖像,畫面清新淡雅紙的質感與筆墨的空靈致使無法直觀的看到畫面局部用筆用色經過PCA處理以后(上可以清晰的看到左下角石頭的用筆方向,筆觸微弱筆法同一種顏料的使用情況也一目了然。結合兩處光譜曲線比對以及混合顏料的光譜特征還能確定A、B為同一種顏料繪制,但B的底層涂有淡墨,吸收了部分光譜,因此其光譜反射較低。

(2)高光譜技術快速解析繪畫技法

    多數觀者可能會有這樣的感受,一些繪畫作品視覺感受很但又說不出好在哪里一幅作品的好,除了構圖和色彩等因素以外,還體現在繪畫技法上

 

    上左圖是一幅花鳥畫作品的局部通過高光譜成像及SAM分類后可以看到分類(上右圖)葉片邊緣跟里面是不一樣的根據顏料的光譜反射特性和中國畫繪畫特點推斷此處是在三綠上面覆蓋赭石后又覆蓋三綠的混合結果,這一深藏不漏的繪畫方式很大程度上豐富了視覺層次感

(3)高光譜技術清晰展現筆墨軌跡

    好的藝術品往往不流于表象,更注重深層不易被發現卻又真實存在的細節,這也是防止作品被偽造的方式之一。

 

    上面佛教繪畫中菩薩背光處在RGB圖像(左圖)中感覺沉靜而不、勻凈而不失變化,但是畫面筆的運行痕跡并不明顯,利用MNF處理分析以后右圖),可以直觀的看到畫家烙印在紙張上的筆墨痕跡,可以更加清晰的看到筆在紙上運行的軌跡。

    繪畫作品的鑒賞解讀是了解作品、學習繪畫*的一部分,高光譜成像技術可以直觀的展現繪畫作品中的細微隱秘之處,讓解讀繪畫作品變得更加容易,使得探究中國古代經典繪畫的筆墨技法這一難題迎刃而解

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