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超精密清洗包括精密工業生產過程中對機械零件、電子元件，光學部件等的超精密清洗，以去除極微小污垢顆粒為目的。
超聲波清洗機根據清洗方法的不同，也可以分為物理清洗和化學清洗：利用力學、聲學、光學，電學、熱學的原理，依靠外來能量的作用，如機械摩擦、超聲波、負壓、高壓.)中擊。紫外線、蒸汽等去除物體表面污垢的方法叫物理清洗；依靠化學反應的作用，利用化學藥品或其它溶劑去除物體表面污垢的方法叫化學清洗.如用各種無機或有機酸去除物體表面的銹跡、水垢，用氧化劑去除物體表面的色斑。消毒劑殺滅微生物并去除霉斑等.物理清洗和化學清洗都存在著各自的優缺點，又具有很好的互補性。在實際應用過程中，通常都是把兩者結合起來使用，以獲得較好的清洗效果。
根據清洗媒介的不同，又可以分為濕式清洗和干式清洗：一般將在液體介質中進行的清洗稱為濕式清洗，在氣體介質中進行的清洗稱為干式清洗.傳統的清洗方式大多為濕式清洗，而人們比較容易理解的干式清洗也就是吸塵器.但近年來，干式清洗發展迅速.如激光清洗.紫外線清洗，等離子清洗、干冰清洗等。
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