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高真空蒸發鍍膜儀是全自動程序控制，彩色觸摸屏界面，操作簡單，它可以鍍金（AU），鉑（PT）和其他非氧化的貴金屬，也可以鍍銥（IR），鉻（CR），鋁（AL）和其他易氧化膜材料的細顆粒。它特別適用于場發射電子顯微鏡，透射電子顯微鏡和非晶碳熔覆/TEM網格支撐膜的樣品制備，還可以為薄膜應用和其他材料領域提供理想的涂層平臺。
高真空蒸發鍍膜儀是一種多功能系統，具有靈活性和模塊化擴展性，可適應不同的樣品制備，它可用于從蒸籠和坩堝以及可選的濺射附件進行碳蒸發和金屬蒸發。可以應用一系列行之有效的技術，包括碳鍍層和TEM覆層，碳/金屬蒸發，低角度和使用雙源蒸發的順序涂層，可選的濺射鍍膜附件可應用于多種目標。它的設計讓其操作更容易實現。
1、通過使用微處理器控制器增強了系統的靈活性，用戶可以輕松添加各種選項。但是，這些“默認”操作已得到優化，因此自動和手動操作都可以實現操作。
2、*的抽屜式樣品裝載系統，方便用戶放入各種樣品，鉸鏈頂蓋結構易于觸及系統的其他區域。
3、渦輪分子泵安裝在系統外部，高真空蒸發鍍膜儀可以輕松安裝和更換。它的前真空是旋轉真空泵。整個泵送過程是全自動控制的，達到高真空后會蒸發。該儀器是臺式的，使用中的疏忽很容易控制并且容易損壞。
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