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臨界膠束濃度(CMC)是用于測量和表征表面活性劑的重要參數，必須通過實驗來確定。所有測量CMC的方法中，基于表面界面張力測量CMC的方法是常見的一種。傳統上，采用DuNoüy環法或Wilhelmy片法來確定表界面張力，但無論是DuNoüy環法或Wilhelmy片法都不適合于測量含有表面活性劑的溶液。Wilhelmy片法遇到的問題是表面活性劑分子會吸附在Wilhelmy板金屬(通常是鉑金)表面上，這會導致明顯的測量誤差，甚至可能會影響溶液中表面活性劑的濃度。DuNoüy環法原則上僅適用于單組分(即純凈)液體，當涉及表面活性劑時，通常難以*清潔環，此外，也不可能獲得特定的動態或平衡狀態相對應的表面張力值。
與傳統測量方法形成鮮明對比，德國LAUDA Scientific光學接觸角測量儀采用光學懸滴分析法測量臨界膠束濃度(CMC)，LSA系列光學接觸角測量儀配備CMC擴展模塊，可實現CMC全自動測量。與傳統的基于力學天平法測量CMC相比，它提供了完美的全新測量方法和全自動測量設備，功能強大，操作簡單，可應用于科學研究、產品開發和工業生產。
與傳統測量方法相比，光學懸滴分析法在準確性、可靠性、方便性和對包含各種表面活性劑的溶液的適用性，以及自動化程度方面，都具有明顯的優勢:
1) 較高的和相對精度：0.1%()或0.01%(相對)；
2) 非常廣泛的測量范圍：從約10-3到幾千mN/m；
3) 完美的適用于測量表面和界面張力；
4) 全自動、無需監測即可完成測量；
5) 可暫停、中斷，并繼續測量；
6) 終點濃度在測量完成后仍可擴展；
7) 適用于各種表面活性劑；
8) 一次測量即可確定靜態CMC以及動態CMC。
( 本文內容得到授權所有者的授權許可)
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