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AMC在線監測空氣分子污染的實時監測對于半導體生產過程非常重要。快速監視，警報，低濃度測量，寬測量范圍以及對多種氣體的高度敏感響應是半導體行業的要求。深紫外光刻工藝特別注意氨，胺，N-甲基吡咯烷酮NMP，酸等的濃度測量。當這些氣體與化學放大的光致抗蝕劑反應時，它們會嚴重影響半導體器件的質量。傳統的古代方法大多使用間接測量和分析方法，包括沖擊濾池，離子色譜法，化學熒光法，這些方法分析速度太慢，操作過程太復雜，價格昂貴且測量結果不準確。
AMC在線監測技術解決了AMC（空氣分子污染物）監測的問題，該監測可以快速測量NH3，HCL，HF的痕量水平，使用脈沖熒光測量SO2，并使用增強的GC-FID測量VOC。3100S系列空氣分子污染物監測系統可測量NH3，HCL，HF的痕量水平，并整合了uVOC-CAM的特性。它是用于半導體行業中潔凈室AMC（空氣分子污染）測量的強大工具。
AMC在線監測還集成了一個多點監測系統，該系統可以按順序將氣體泵送到分析儀或傳感器，并讀取測量結果。3100S內嵌的警報，報告和分析軟件是由在半導體行業具有多年經驗的工程師共同開發的。使用以太網，RS485/RS232或4-20mA模擬量模塊從4?6個分析儀或傳感器輸出數據。每臺分析儀均配有用于數據存儲和數據輸出的內置計算機，還支持遠程網絡控制，操作或診斷。
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