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輝光放電發射光譜儀是一種用于機械工程領域的分析儀器。主要是檢測鍍層厚度及化學成分 金屬材料基體化學成分。那你知道輝光放電的主要原理是什么嗎？
輝光放電腔室內充滿低壓氬氣，當施加在放電兩極的電壓達到一定值，超過激發氬氣所需的能量即可形成輝光放電，放電氣體離解為正電荷離子和自由電子。在電場的作用下，正電荷離子加速轟擊到(陰極)樣品表面，產生陰極濺射。在放電區域內，濺射的元素原子與電子相互碰撞被激化而發光。
整個過程是動態的，氬氣離子持續轟擊樣品表面并濺射出樣品粒子，樣品粒子持續進入等離子體進行激化發光，不斷有新的層在被濺射，從而獲得鍍層元素含量隨時間的變化曲線。
輝光放電等離子體有雙重作用，一是剝蝕樣品表面顆粒；二是激發剝蝕下來的樣品顆粒。在空間和時間上分離剝蝕和激發對于輝光放電操作非常重要。剝蝕發生在樣品表面，激發發生在等離子體中，這樣的設計可以很好地抑制基體效應。
氬氣是輝光放電很常用的氣體，價格也相對便宜。氬氣可以激發除氟元素外所有的元素，如需測試氟元素或是氬元素時需采用氖氣作為激發氣體。有時也會使用混合氣體，如Ar+He非常適合于分析玻璃，Ar+H2可提高硅元素的檢出，Ar+O2會應用到某些特殊的領域。
光譜儀的主要功能是通過收集和分光檢測來自等離子體的光以實現連續不斷監控樣品成分的變化。光譜儀的探測器必須能夠快速響應，實時高動態的觀測所有元素隨深度的變化。輝光放電光譜儀中多色儀是儀器的重要組成部分，是實現高動態同步深度剖析的保障。而光柵是光譜儀的核心，光柵的好壞決定了光譜儀的性能，如光譜分辨率、靈敏度、光譜儀工作范圍、雜散光抑制等。輝光放電是一種較弱的信號，光通量的大小對儀器的整體性能有至關重要的影響。
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