膜厚儀分為手持式膜厚儀和臺式膜厚儀兩種,手持式又有磁感應鍍層測厚儀,電渦流鍍層測厚儀,熒光X射線儀鍍層測厚儀。手持式的磁感應原理時,利用從測頭經過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小,來測定覆層厚度。也可以測定與之對應的磁阻的大小,來表示其覆層厚度。
臺式的熒光X射線膜厚儀,是通過一次X射線穿透金屬元素樣品時·產生低能量的光子,俗稱為二次熒光,,在通過計算二次熒光的能量來計算厚度值。
保障膜厚儀測量顯示值準確性必要懂得以下小技巧
基體金屬特性
對于渦流方法,標準片基體金屬的電性質,應當與試件基體金屬的電性質相似。
檢查基體金屬厚度是否超過臨界厚度,無損檢測資源網 如果沒有,可采用3.3中的某種方法進行校準。
不應在緊靠試件的突變處,如邊緣、洞和內轉角等處進行測量。
不應在試件的彎曲表面上測量。
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