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立式高真空回火爐是一種用于材料科學領域的工藝試驗儀器，由主機、真空系統、冷風系統、充氣系統、氣動系統、電氣控制系統和爐外運輸車等組成，主要適用于真空淬火和光亮淬火后回火處理以及低溫退火和時效處理等工藝。
立式高真空回火爐上分別連接有導溫管和降溫管，導溫管連通溫箱，降溫管另一端連接有制冷設備，其中導溫管和降溫管的管口位置處分別連接有控制其啟閉狀態的一控制閥和二控制閥，兩控制閥通過控制器進行控制，控制器上連接有溫度傳感器和用于接收溫度傳感器的信號并向控制閥輸出控制信號的CPU芯片，溫度傳感器檢測的溫度低于CPU芯片核定溫度范圍，CPU芯片向一控制閥輸出開啟信號，并向二控制閥輸出關閉信號，溫度高于CPU芯片核定溫度范圍，情況則相反，而當處于CPU芯片核定溫度范圍內，則一控制閥和二控制閥皆處于關閉狀態。
分導管的另一端延伸至相對的面上，其中時效處理室的頂面上固定有吊勾用以固定分導管。時效處理室較大，直接通過導溫管和降溫管的管口輸出熱氣和冷氣會導致時效處理室內部出現溫度不均勻的情況，為盡量降低加工成本解決這一技術問題，可以在導溫管和降溫管的管口位置處連接分導管，相對應的氣體可以通過分導管上的通孔排入時效處理室內，由此盡量保證氣體輸入時的影響范圍，盡可能提高時效處理室內的溫度均勻性。
導溫管和降溫管內連接有管道風機，在導溫管和降溫管內連接上管道風機可以大大加快傳輸時的速度，提高溫度調節的效率，進一步優化技術效果，導溫管和降溫管的管口位置處連接有分導管，分導管的另一端呈封閉狀態，其中分導管的管體上均勻開設有若干通孔。
希望上述內容能夠幫助大家更好的了解本設備。
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