1、設備參數
1.1 系統指標
1.1.1加熱方式:遠紅外陶瓷輻射加熱,采用智能PID控制,0~100%功率可程序線性設定。
1.1.2加熱單元:采用適合圓底燒瓶加熱的碗式形狀的遠紅外陶瓷器皿,均可單孔單控;加熱功率:單孔加熱功率≤400W,整體額定加熱功率≤2800W
1.1.3樣品處理數量:≥6個
1.1.4蒸餾量控制:稱重+時間雙重控制
1.1.5蒸餾終點設定范圍:1-500ml或同等換算單位:1-500g
1.1.6倒計時工作時間設定:1-200min
★1.1.7接收瓶規格:錐形瓶、容量瓶、燒杯等,儀器內置250ml錐形瓶、100ml容量瓶等多種補償方法,可自定義補償值。
1.1.8控制方式:7寸液晶觸提屏控制
★1.1.9配有蒸餾瓶氣密性檢測功能。
1.2設備部件要求
1.2.1主機設計有防過量蒸餾保護系統,在每個餾出液出口設計有防過量蒸餾保護裝置,蒸餾結束后系統能自動鎖定餾出液出口。
1.2.2主機設計有一鍵排空功能,蒸餾結束后管路內的殘液可通過一鍵排空功能放出多余冷循環液。
1.2.3蒸餾結束后系統自動切斷加熱電源,同時啟動防倒吸保護系統。
1.2.4 清洗系統:主機設有冷凝管自動清洗系統,蒸餾結束后按清洗鍵可自動吸入純水,自餾出液接收端至燒瓶加熱端實現反向沖洗。
★1.2.5 冷凝單元:內置隱藏式蛇形冷凝管設計,位于加熱區域正前下方,更換燒瓶無需移動冷凝管。
1.2.6 采用外置冷卻水自循環單元。
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