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高純度氫氣發生器可為產、進口氣相色譜提供穩定的氫氣氣源，操作簡單，只需啟動電源開關即可產氣，輸出壓力穩定，流量由LED數碼顯示，直觀醒目。日常使用時只需補充蒸餾水，可連續使用也可間斷使用。儲液、電解制氫、排氧一體化，池溫低，壽命長久。氫氣作為一種綠色能源介質，可同時滿足資源、環境和可持續發展的要求，是其他燃氣所不能比擬的。氫氣發生器用氫氧火焰切割，以替代傳統連鑄坯切割技術，另外在使用氫氧火焰對原設備進行簡易改造，投入較少。
氣相外延生長技術是在VPE基礎上發展起來的，是以族元素的有機化合物和氫化物等作為晶體生長源材料，以熱分解反應方式在襯底上進行氣相外延，生長各種-V族化合物半導體以及它們的多元固溶體的薄層單晶材料。
在氣相外延生長技術中，氫氣可以擔當載氣，將III(II)金屬有機物和V(VI)族氫化物以及摻雜源攜帶運輸到反應室內，為化學沉積反應和薄膜生長提供基礎，要求氫氣純度≥99.999%(≥5N)，壓力為4-7bar，而高純度氫氣發生器所產氫氣可以符合這一領域的用氣需求。同時，氫氣純度穩定不變，減少了氫氣純度波動對設備的影響。
此外，設備操作便捷，保障氫氣供應連續不間斷，用戶無需擔心氫氣用完，也無需和高壓氣體鋼瓶接觸，發生器自動運行，無需額外人工操作。發生器自動偵測自身工作狀態和錯誤，一旦偵測異常即發生。
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