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真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發，電子槍加熱蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。
真空鍍膜機的操作使用：
1、檢查設備各操作控制開關是否在"關"位置。
2、打開總電源開關，真空鍍膜設備送電。
3、低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。
4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位，保證無任何雜質污物。
5、落下鐘罩。
6、啟動真空鍍膜設備抽真空機械泵。
7、開復合真空計電源。
（1）左旋鈕“1”順時針旋轉至指向2區段的加熱位置。
（2）低真空表“2”內指針順時針移動，當指針移動至110mA時，左旋鈕"1"旋轉至指向2區段測量位置。
8、當低真空表“2”內指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
9、真空鍍膜設備開通冷卻水，啟動擴散泵，加熱40min。
10、低壓閥拉出。重復一次⑦動作程序：左下旋鈕“1”轉至指向2區段測量位置。低真空表“2”內指針順時針移動，當指針移動至6.7Pa時，開高壓閥。
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