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半導體是電子產品的核心，信息產業的基石。半導體行業是國民經濟支柱性行業之一，其發展程度是衡量一個國家科技發展水平的核心指標。近年來，為進一步鼓勵國內半導體的整體發展，打破外國壟斷，增強科技競爭力，政府投入大量資金在國內建造很多集成電路制造廠。
由于半導體行業的特殊性，芯片的制造、加工工藝非常復雜，在芯片生產工藝中需要使用大量特殊的高純氣體且氣體毒性很強，這些氣體參與芯片生產后，殘余的少量氣體經過凈化裝置處理后，通過固定污染源的方式排放至大氣環境中，如何監測特殊污染物排放量并采取適當的控制措施是半導體行業面臨的難點，現有的監測設備及分析手段無法用于半導體行業特殊污染物的檢測工作。
樂氏科技自主研發生產的9100FIR和進口產品AtmosFIR兩款傅里葉紅外氣體分析儀，能夠很好地滿足半導體行業排污監測需要。傅里葉紅外氣體分析儀采用全光譜分析技術，一臺分析儀可以檢測在紅外光譜范圍內具有紅外吸收的全部氣體組分，目前儀器開放的氣體標準定量紅外譜庫*涵蓋半導體行業特殊污染物因子，如NF3、SF6、CF4是半導體行業尤為關注的三種氣體污染物，關于這三種氣體的介紹如下：
NF3是一種強氧化劑，在微電子工業中作為一種優良的等離子蝕刻氣體，在芯片制造有大量運用；
SF6是一種理想的電子蝕刻劑，廣泛應用于微電子、芯片制造技術領域；
CF4是微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，四氟甲烷高純氣和高純氧的混合氣，可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻；
NF3、SF6、CF4是半導體行業使用最多的三種氣體組分，由于用量很大，且為高純氣，除污染物的排放會涉及上述氣體組分，氣體的泄漏也會對人體和環境產生巨大影響和毒害。這些氣體組分會強烈刺激眼睛、皮膚和呼吸道粘膜，腐蝕組織，濃度過高也會產生窒息的危險。因此在半導體行業針對上述氣體的應急監測及固定污染源排放監測顯得尤為重要。
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