手機(jī)版
化工儀器網(wǎng)手機(jī)版
化工儀器網(wǎng)小程序
官方微信
公眾號(hào)：chem17
掃碼關(guān)注視頻號(hào)
2dsemiconductors石墨烯產(chǎn)品簡(jiǎn)介
2dsemiconductors石墨烯產(chǎn)品簡(jiǎn)介
羧基石墨烯
貨號(hào)： BLK-CARGR
描述
羧基石墨烯
我們的設(shè)施已開發(fā)出羧基 (-COOH) 官能化石墨烯。可以通過傳統(tǒng)的機(jī)械剝離或溶液形式的旋涂沉積在各種基材上。羧基高達(dá)3%，產(chǎn)品純度99.9%。
平均晶粒尺寸約為 1-10 微米，可懸浮在 DI、DMF 和其他極性溶劑中進(jìn)行旋涂沉積。
材料、物理、生物科學(xué)和化學(xué)應(yīng)用的理想選擇。
氟化石墨烯
貨號(hào)： BLK-GRFL
描述
氟化石墨烯
我們的設(shè)施已開發(fā)出氟化石墨烯。碳氟比為 1:1，粒徑范圍為 1-15 微米。電阻率為 1E11-1E12 Ohm.cm。該產(chǎn)品是電池、潤(rùn)滑、熱管理和 2D 電子/基板應(yīng)用的理想選擇。單層可以通過機(jī)械剝離或旋涂工藝沉積到各種基材上。該產(chǎn)品附帶詳細(xì)的去角質(zhì)技術(shù)指南，可讓您提高單層生產(chǎn)率。
石墨烯泡沫鎳
SKU： BLK-Grphfoam
描述
石墨烯泡沫鎳
3D 石墨烯泡沫通過化學(xué)氣相沉積 (CVD) 工藝舒適地沉積在鎳泡沫箔上。鎳 (Ni) 泡沫是通過在高溫下進(jìn)行酸反應(yīng)，然后是 4 步 CVD 石墨烯生長(zhǎng)工藝制成的。總體而言，在 C2H4 氣體與 H2 氣體反應(yīng)后，少數(shù)層和單層石墨烯沉積在 Ni 壁上。這些材料是氣體分離、催化、氣體檢測(cè)、傳感應(yīng)用的理想選擇。
Ni泡沫箔上石墨烯的拉曼光譜
沉積在泡沫鎳箔上的石墨烯的多孔結(jié)構(gòu)
泡沫鎳箔上的石墨烯泡沫圖像
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源：化工儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的，應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用，并注明“來源：化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源（非化工儀器網(wǎng)）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé)，不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí)，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源，并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題，請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
采購中心