日本日立熒光分布成像系統概述

2019年10月23日，日立高新技術公司（TSE:8036，日立高新技術）正式推出熒光分布成像系統“EEM® View”，此系統由日立高新技術公司與日本的大學共同利用機關法人信息•系統研究機構 國立信息學研究所（所長：喜連川優，以下簡稱國立信息學研究所）共同研發而成。
EEM® View可直接安裝到F-7100熒光分光光度計上，結合樣品的光譜數據與CMOS*1相機裝置拍攝的圖像，可同時獲得樣品的熒光圖像和反射圖像，因此，對于需要高精度測定的材料、藥物、食品等領域的研發與品質管理等十分重要。

熒光分光光度計經過激發側單色器將白色光分解成單色光，照射到樣品上使樣品發射出*的熒光，再經發射側單色器將熒光分解為單色光到達檢測器，從而測定熒光物質的性質或濃度等。
近年來，LED照明、顯示屏等中使用的熒光材料越來越精細，因此在電子材料和工業材料的性能與特性評價中，對熒光分光光度計的測定精度要求越來越高。
此次發布的熒光分布成像系統“EEM® View”是熒光分光光度計測定專用系統，通過采用積分球*2和CMOS相機裝置，使用領*技術*3可同時獲得分光圖像和光譜數據。
照射的單色光經過積分球漫反射獲得均勻的光源，照射樣品，然后通過CMOS相機裝置拍攝圖像，再利用融合AI技術的計算系統*4，分別顯示熒光成分和反射成分的圖像。此外，這些樣品圖像可以分割成25個小區域，分別放大顯示每個區域，并獲得每個區域對應的熒光和反射光譜數據。在這之前，熒光分光光度計只能獲得樣品的平均光譜數據，使用EEM® View不僅可以清晰地看到樣品的反射、熒光光譜，而且還可以通過圖像確認樣品產生熒光的位置，獲得特定位置的光譜數據，實現了熒光物質更高精度的測定。
隨著“EEM® View”在熒光分析中的應用，日立高新技術公司勢必將會在以電子材料和工業材料為主的領域做出重要貢獻，比如食品檢驗、生命科學、生物技術等的研發與品質管理。
日立高新技術集團以成為科學儀器界的領XIAN品牌為中期戰略目標，全心致力于優秀產品的開發，為制造業做出更大的貢獻。作為*、前沿的事業創新型企業，日立高新技術集團以成為提供高新技術和解決方案的*I流企業為目標，始終從客戶立場出發，快速滿足客戶和市場需求。
* 1CMOS（Complementary Metal-Oxide Semiconductor）：互補金屬氧化物半導體
* 2積分球：內壁涂有高反射涂層的中空球
* 3日立高新技術公司調查結果（截止至2018年12月）
* 4計算系統是國立信息學研究所的佐藤IMARI教授和鄭銀強副教授共同研究的成果，用于熒光、反射圖像的分離以及各區域熒光、反射光譜的計算。
* EEM：指激發發射矩陣，三維顯示激發波長、發射波長、熒光強度，反映物質熒光特性的分析數據。也被稱為三維熒光光譜、熒光指紋。
*  “EEM”是日立高新技術公司在日本的注冊商標。

日本日立熒光分布成像系統特點

★ 可在不同光源條件下（白色光和單色光）獲得圖像
★ 可利用自主研發的計算系統，分別顯示熒光圖像和反射圖像
★ 可獲得不同區域（樶多25個區域）的光譜信息（熒光光譜、反射光譜）