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高分辨率光譜儀可配置不同的光柵實現(xiàn)不同的光譜范圍應用
高分辨率光譜儀采用高分辨率光學平臺，適用于需要精細光譜分辨率的場合，為激光表征、氣體吸收測量和等離子體分析提供高質量的光譜測量。大焦距光學平臺設計使得信噪比更高，速度更快，可靠性和穩(wěn)定性更好，更適合高分辨率光譜波長的探測。CMOS探測器正逐步發(fā)展并取代CCD，可應用于激光器和LED等光源波長的表征、等離子體氣體放電、LIBS激光感應、原子發(fā)射元素光譜測量等。
高分辨率光譜儀的光譜范圍為200-1100nm，高光學分辨率可達0.06nm，根據(jù)不同的應用需求，可配置不同的光柵實現(xiàn)不同的光譜范圍應用。同時可與光源、光纖探頭、積分球、標準板、熒光吸收支架、余弦探頭配合，實現(xiàn)吸光度、透反、熒光、LIBS、輻射測量等應用。同時結構緊湊，雜散光低，熱穩(wěn)定性好。高速測量短時間可達0.5ms。用戶還可以通過選擇不同的光柵配置獲得不同的光學分辨率和光譜響應范圍，非常適合工業(yè)和科研應用。
其超高的性能可以大大提高吸光度、反射率、熒光和拉曼檢測的準確性。對于一些要求更高的測試，可以容納15000個光譜的緩沖器可以保證高速采集中數(shù)據(jù)的完整性，其先進的光學設計和熱電制冷裝置可以大大提高長時間檢測的熱穩(wěn)定性。因此，無論是高速測量還是寬濃度范圍檢測，都能為實驗室或在線應用提供性能。
高分辨率光學平臺可以提供高達0.1nm的光學分辨率，100nm的焦距和0.11的數(shù)值孔徑組合可以使光譜儀在不增加體積的情況下達到分辨率和靈敏度的平衡。雙閃耀光柵在寬光譜范圍內(nèi)響應更均勻，解決了寬光譜范圍內(nèi)的效率平衡和高階干涉問題，最寬光譜范圍覆蓋200~1100nm。高速控制技術可在1ms內(nèi)設定新的積分時間，為光譜儀控制節(jié)省時間。
高分辨率光譜儀可配置經(jīng)過特殊紫外增感處理的深紫外CCD，將光譜探測范圍擴展到深紫外波段。具有標志位和底層調(diào)用技術，在保證高速測量的同時，可以進一步提高測量精度。提供低成本光纖，建立個性化光譜測量設備。
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