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一、用途
光刻機是芯片制造的核心設備之一，按照用途可以分為好幾種：有用于生產芯片的光刻機；有用于封裝的光刻機；還有用于LED制造領域的投影光刻機。
二、工作原理
在加工芯片的過程中，光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，然后使用化學方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖。
一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經過一次光刻的芯片可以繼續涂膠、曝光。越復雜的芯片，線路圖的層數越多，也需要更精密的曝光控制過程。
光刻機的結構：
1、測量臺、曝光臺：是承載硅片的工作臺。
2、激光器：也就是光源，光刻機核心設備之一。
3、光束矯正器：矯正光束入射方向，讓激光束盡量平行。
4、能量控制器：控制最終照射到硅片上的能量，曝光不足或過足都會嚴重影響成像質量。
5、光束形狀設置：設置光束為圓型、環型等不同形狀，不同的光束狀態有不同的光學特性。
6、遮光器：在不需要曝光的時候，阻止光束照射到硅片。
7、能量探測器：檢測光束最終入射能量是否符合曝光要求，并反饋給能量控制器進行調整。
8、掩模版：一塊在內部刻著線路設計圖的玻璃板，貴的要數十萬美元。
9、掩膜臺：承載掩模版運動的設備，運動控制精度是nm級的。
10、物鏡：物鏡用來補償光學誤差，并將線路圖等比例縮小。
11、硅片：用硅晶制成的圓片。硅片有多種尺寸，尺寸越大，產率越高。題外話，由于硅片是圓的，所以需要在硅片上剪一個缺口來確認硅片的坐標系，根據缺口的形狀不同分為兩種，分別叫flat、notch。
12、內部封閉框架、減振器：將工作臺與外部環境隔離，保持水平，減少外界振動干擾，并維持穩定的溫度、壓力。
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