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旋轉涂膜機適用于半導體、晶體、CD、制版等表面鍍膜工藝，可用于強酸和強堿涂膜溶液的涂膜制備。該機可以對鍍膜機的腔體抽真空，使樣品在真空的狀態下進行鍍膜，適合使用在空氣中容易氧化變質的薄膜材料。鍍膜機工作時，樣品通過真空托盤吸附固定在樣品裝載托盤上。該設備可存儲12組程序，每組程序包含6個運行階段。設備在不同運行階段的不同轉數，使設備緩慢提高到極限速度，有利于薄膜材料在樣品表面均勻成膜，不會浪費太多，從而節省材料，具有操作簡單、清洗方便、體積小等優點，主要用于各大學和研究所的實驗室生成薄膜。
1、旋轉涂膜機共有12組程序，每組包括6個運行階段。每級升降速率的設定范圍為100-2000rpm/s，每級時間范圍為0-60s。
2、樣品可以通過真空吸附或粘接或夾緊來固定，操作簡單。
3、吸盤的真空度可以達到-0.08MPa。
4、使用定位工具，樣品可以很容易地放置在中心位置，以減少偏心引起的振動或飛片。
5、可根據樣品規格使用不同的吸盤，更換方便簡單。
6、電機采用DC無刷電機，無級調速，可靠性高，適應性強，維修保養簡單，噪音低，振動小，運轉平穩，啟動快速平穩，加速后運轉平穩，能保證涂層厚度的一致性和均勻性。
7、真空吸附固定樣品時，采用無油平行桿真空泵，具有體積小、結構簡單、操作簡單、維修方便、無環境污染等優點。
8、涂覆可以在惰性氣體氣氛中進行。
9、涂覆可以在真空狀態下進行。此時，需要通過粘合基板或夾緊基板來固定涂覆的基板。
10、旋轉涂膜機腔體整體由聚丙烯制成，使用壽命更長，耐化學腐蝕性能提高，抗應力開裂性能優異。
11、具有開蓋保護功能。當涂層過程中或涂層結束時打開蓋子時，機器將快速減速直至停止。
12、控制器采用控制箱，液晶顯示數值，更加直觀可靠。
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