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紫外線光刻機是印制板制造工藝中的重要設備。傳統(tǒng)光刻機的玻璃-邁拉曬架在生產(chǎn)過程中需要人工趕氣,邁拉膜需要經(jīng)常更換。由于冷卻系統(tǒng)過于臃腫,使得其生產(chǎn)成本高、效率低,已不能滿足PC B 生產(chǎn)的需要。在實驗基礎上設計了雙玻璃曬架光刻機，改進了其主要組成部分,包括曬架系統(tǒng)、光路系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)以及電氣和控制系統(tǒng)的整體設計。
該光刻機可廣泛用于MEMS和光電子，例如LED生產(chǎn)。它經(jīng)過**設計，方便處理各種非標準基片、例如混合、高頻元件和易碎的***族材料，包括砷化鎵和磷化銦。而且該設備可通過選配升級套件，實現(xiàn)紫外納米壓印光刻。它具有以下亮點：高分辨率掩模對準光刻，特征尺寸優(yōu)于0.5微米、裝配SU**的單視場顯微鏡或分視場顯微鏡，實現(xiàn)快速準確對準、針對厚膠工藝進行優(yōu)化的高分辨光學系統(tǒng)、可選配通用光學器件，在不同波長間進行快速切換等。
采用三柔性支點實現(xiàn)高精度自動調(diào)平；真空接觸自動曝光；樣片升降、調(diào)平、接觸、曝光、復位實現(xiàn)自動化控制；采用積木錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高均勻照明；可連續(xù)設定分離間隙；采用雙目雙視場顯微鏡實現(xiàn)高對準精度。整機具有性能可靠、操作方便、自動化程度高等特點。
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