半導(dǎo)體制造行業(yè)工藝之一-光刻黃光NLT3系列介紹

來(lái)源：秋山科技（東莞）有限公司 2023年07月21日 10:46

半導(dǎo)體制造行業(yè)工藝之一-光刻黃光NLT3系列介紹

光刻是半導(dǎo)體制造過(guò)程中不可少的工藝之一。

晶圓被光刻膠，然后進(jìn)行蝕刻和摻雜過(guò)程。

NLT3-591nm系列以光刻膠不反應(yīng)的波長(zhǎng)發(fā)光，使其適用于光刻前后工藝中的設(shè)備照明，這是一種半導(dǎo)體制造工藝。

半導(dǎo)體設(shè)備照明、IC工廠照明、潔凈室、黃室等

發(fā)光二極管波長(zhǎng)	591納米
預(yù)期壽命	工作溫度 40°C 40，000 小時(shí) * 壽命是照度為初始照度的 70% 時(shí)
工作溫度	-10°C~40°C（但不凍結(jié)）
防護(hù)等級(jí)	IP65 防護(hù)等級(jí)
電源線	3 米（AWG26x2C）

選擇	安裝磁鐵（ND-P03）
選擇

型	繪圖	總光通量	照度（1米）	權(quán)力	功耗
NLT3-10-直流-S（591納米）	。.PDF	300 流明	80 lx	直流24V	3.8瓦
NLT3-20-直流-S（591納米）	。.PDF	610 流明	160 lx		8W
NLT3-30-直流-S（591納米）	。.PDF	930 流明	230 lx		12W
NLT3-40-直流-S（591納米）	。.PDF	1，240 流明	310 lx		16W

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