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光刻機又名掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上，光刻機的種類可分為：接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光。
光刻機是一種利用光學原理進行微細加工的設備。其原理是利用光學透鏡將光線聚焦到光刻膠表面，通過光刻膠的光化學反應來形成微細的圖形。光刻機的核心部件是光刻膠，光刻膠是一種特殊的聚合物材料，其特點是在光的照射下會發生化學反應，從而形成微細的圖形。
該光刻機可廣泛用于MEMS和光電子，例如LED生產。它經過特殊設計，方便處理各種非標準基片、例如混合、高頻元件和易碎的**族材料，包括砷化鎵和磷化銦。而且該設備可通過選配升級套件，實現紫外納米壓印光刻。它具有以下特點：高分辨率掩模對準光刻，特征尺寸優于0.5微米、裝配SUSS的單視場顯微鏡或分視場顯微鏡，實現快速準確對準、針對厚膠工藝進行優化的高分辨光學系統、可選配通用光學器件，在不同波長間進行快速切換等。
光刻機在芯片制造中的應用廣泛。在芯片制造的過程中，需要將電路圖案轉移到硅片上，這就需要利用光刻機進行微細加工。光刻機可以將電路圖案轉移到硅片上，從而形成微細的電路結構。光刻機的分辨率越高，制造出來的芯片就越精細，性能也越好。
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