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可變角度光譜橢偏儀(HO-SE-01XY)

來源:世聯博研(北京)科技有限公司   2024年11月27日 11:16  

Holmarc 型號: HO-SE-01XY 可變角度光譜橢偏儀是旋轉分析儀型橢偏儀,用于測量單層和多層薄膜的厚度和折射率。它可以測量幾納米到幾十微米范圍內的薄膜厚度,以及透明材料和吸收材料的光學常數。

                                                                                                規格

    光譜范圍:450 - 800 納米

    橢偏儀配置 :  RAE

    探測器:3648 像素 CCD 線性傳感器

    光譜分辨率:1 納米

    入射角:50 - 75 度(分辨率 0.1 度,自動操作)

    樣品聚焦:自動

    樣品厚度:0.3 毫米 - 8 毫米

    樣品 XY 平臺行程:30 毫米 x 30 毫米(電動)

    厚度測量范圍:20 納米 - 10 微米

    薄膜厚度分辨率:0.01 納米

    測量 R.I 的分辨率:0.001

    樣品校準 :  手動傾斜

    樣品測量:自動

    厚度分析:先進的數學擬合算法

    軟件功能

    自動操作

    自動樣品聚焦

    用戶可擴展材料庫

    數據可保存為 Excel 格式

    數學擬合算法

    多層厚度測量

    推導厚度和光學常數


 

橢偏原理



橢偏儀是一種高靈敏度的薄膜分析技術。其原理依賴于光從表面反射時偏振態的變化。


為了描述與電磁波電場方向相對應的偏振態,選擇了兩個方向作為參考,即 p 方向(平行)和 s 方向(垂直)。反射光在 p 方向和 s 方向的相位變化不同。橢偏儀可以測量這種偏振狀態;


p = rp / rs = tan Ψe iΔ


其中,Ψ 和 Δ 分別是 p 和 s 分量的振幅比和相移。由于橢偏儀測量的是兩個值的比值,因此非常精確且可重復。


特點


    非破壞性和非接觸式技術


    分析單層和多層樣品


    精確測量超薄薄膜


    用于測量、建模和自動操作的軟件


    統一的 (Ψ, Δ) 測量靈敏度


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