摩擦機是為液晶研發實驗室開發的。該系統用于在聚酰亞胺上刻畫溝槽，以確定液晶分子的方向。凹槽是用一種深度為幾埃特的特殊摩擦布制成的。基片由真空吸盤固定，真空吸盤包括真空泵，并與系統集成。可裝載的最大玻璃基片尺寸為 100 毫米 x 100 毫米。基片和真空吸盤被固定在一個旋轉臺上，因此可以在 0 到 180 度之間的任意角度進行旋轉和定位，以獲得不同的摩擦方向。

該系統是作為一個獨立單元開發的，可改變輥筒的速度和基片的速度。

可編程功能

基底的運動范圍

移動速度（基底平臺）

重復次數/操作持續時間

                                                                                                      規格

基片支架

    a) 用于基底移動的電動線性平臺

    b) 由步進電機驅動

    c) 行程：80 毫米

    d) 低速度：0.05 毫米/秒

           最高速度：9 毫米/秒

    e) 可移動基板的最大尺寸：100 毫米 x 100 毫米

    f) 基板固定在旋轉臺上，可旋轉 +/- 45 度

    摩擦輪傳動裝置：帶速度控制的無刷直流電機

           高轉速：3000 rpm

           低轉速：0 rpm

    LCD 屏幕顯示速度

    通過旋鈕控制主軸轉速

    輸入：230 VAC

    系統可獨立使用

    基底保持：真空（含真空泵）

    真空泵類型 ：    無油

    摩擦布：絨布（不包括在內）