等離子清洗機器用于大學實驗室清洗實驗工具、鞋底與鞋面粘接、汽車玻璃涂層膜清洗、經(jīng)等離子體清洗機處理后能使材料粘接更加牢固，如燈、玻璃、紡織、塑料印刷、光電材料或金屬等。

等離子清洗機器還能去除晶圓表面的金屬離子、氧化物等無機物，借助等離子體的轟擊可以使無機物與等離子體中的粒子發(fā)生反應或直接被濺射掉，比如去除晶圓表面自然形成的氧化層，確保晶圓表面的純凈度。

等離子清洗去膠機器在半導體行業(yè)的廣泛應用，可有效去除表面污染物和顆粒，有利于提高導線鍵的強度，減少芯片分層的發(fā)生，提高芯片本身的質(zhì)量和使用壽命，提高包裝產(chǎn)品的可靠性

專為半導體封裝和組裝 (ASPA)、晶圓級封裝 (WLP) 和微機電 (MEMS) 組裝的需求而設(shè)計等離子清洗機。通過使用合適的等離子處理技術(shù)可以改善或克服許多制造挑戰(zhàn)，包括改善芯片附著、增加引線鍵合強度、消除倒裝芯片底部填充空隙以及減少封裝分層。

等離子清洗機器去除半導體/芯片/晶圓表面殘膠晶圓等離子清洗設(shè)備 對半導體行業(yè)封裝清洗.晶圓,芯片倒裝表面活化,除膠,提高表面附著力.

plasma等離子清洗機器改善鍵合效果，在晶圓鍵合過程中，等離子清洗機器去除晶圓表面的污染物和氧化層，提高表面的清潔度和活性，改變表面微觀形態(tài)，使其變得更加粗糙，增加表面能，提高晶圓表面的潤濕性和粘附性。這些改變有助于增強晶圓之間的鍵合強度，減少鍵合過程中可能出現(xiàn)的空洞和缺陷，進一步提高鍵合質(zhì)量。