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半導體等離子去膠機是半導體制造工藝中的關鍵設備，主要用于去除光刻膠、殘留物或污染物。它利用等離子體的高能特性，通過物理或化學作用實現高效、精準的去膠和表面處理。
一、半導體等離子去膠機核心功能與原理：
1.核心功能：
去膠：去除光刻工藝后殘留的光刻膠（正膠或負膠）。
表面清潔：清除晶圓表面的有機物、氧化物或顆粒污染物。
表面活化：增強晶圓表面活性，提高后續工藝（如鍍膜、鍵合）的附著力。
蝕刻：選擇性去除特定材料（如氧化層），用于精細圖形處理。
2.工作原理：
通過等離子體（由氣體電離產生的高能離子和自由基）與光刻膠或污染物發生化學反應或物理轟擊，實現材料去除。
常見氣體包括氧氣、氟化氣體、氬氣等，根據工藝需求選擇。
二、半導體等離子去膠機行業應用場景：
1.半導體制造：
光刻工藝后清洗：去除光刻膠殘留，避免影響后續刻蝕或沉積工藝。
先進封裝：在3D封裝、TSV（硅通孔）等工藝中，用于清潔芯片表面或去除臨時鍵合膠。
MEMS制造：去除光刻膠和釋放微結構（如諧振器、傳感器）。
2.集成電路（IC）生產：
在晶圓減薄、切割前清潔表面，防止污染。
在金屬線鍵合前處理焊盤表面，提高鍵合強度。
3.LED與光電器件：
去除LED芯片表面的光刻膠或熒光粉殘留。
清潔光伏電池表面，提升光電轉換效率。
4.功率器件與第三代半導體：
用于碳化硅（SiC）、氮化鎵（GaN）等寬禁帶半導體的表面處理，去除高粘性光刻膠。
在IGBT、MOSFET等功率器件制造中，清潔金屬層或介質層。
5.先進封裝技術：
在扇出型封裝（Fan-out）、系統級封裝（SiP）中，用于去除臨時鍵合膠或清潔RDL（重布線層）。
6.科研與新材料領域：
在納米材料、石墨烯等新型材料的制備中，用于表面清潔或圖形化處理。
支持高校、研究所的微納加工實驗。
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