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半自動光刻機（Semi-AutomaticPhotolithographyMachine）是半導體制造、微電子加工和MEMS（微機電系統）等領域的關鍵設備，用于將掩模版（光刻掩模）上的圖形轉移到涂有光刻膠的基片（如硅片）上。與全自動光刻機相比，半自動機型需要人工參與部分操作（如上片、對準等），但核心曝光過程仍自動化。以下是其詳細工作原理：
1.核心工作流程
半自動光刻機的工作流程可分為以下步驟：
基片準備→2.涂膠→3.軟烘（前烘）→4.對準與曝光→5.顯影→6.硬烘（后烘）
2.各步驟詳細原理
(1)基片準備
基片清潔：通過化學清洗（如RCA法）或等離子處理去除硅片表面的污染物和氧化物。
表面處理：涂覆增粘劑（如HMDS）以增強光刻膠與基片的附著力。
(2)涂膠（SpinCoating）
手動/半自動操作：將光刻膠滴在基片中心，通過旋轉臺高速旋轉（1000~6000rpm）使膠均勻鋪展，形成厚度約0.5~2μm的薄膜。
關鍵參數：轉速、時間、光刻膠粘度（影響最終膠厚）。
(3)軟烘（Pre-Bake）
目的：蒸發光刻膠中的溶劑，提高膠膜穩定性。
方式：熱板烘烤（90~120°C，30~60秒）或紅外加熱。
半自動控制：溫度和時間由設備設定，人工放置/取出基片。
(4)對準（Alignment）與曝光（Exposure）
對準（半自動核心步驟）：
操作員通過顯微鏡觀察掩模版與基片上的對準標記（AlignmentMark），手動調整位置（X/Y平移+旋轉），確保圖形精確套刻。
早期半自動設備依賴機械調節，現代機型可能配備圖像識別輔助對準。
曝光（自動化部分）：
光源：紫外光（UV，如g線436nm、i線365nm）、深紫外（DUV，如248nmKrF激光）或寬譜汞燈。
曝光方式：
接觸式：掩模直接接觸光刻膠，分辨率高但易損傷掩模。
接近式：掩模與基片間隙約10~50μm，犧牲分辨率換取掩模壽命。
投影式（半自動較少用）：通過透鏡組縮小投影，用于高精度場景。
光化學反應：光刻膠中的光敏化合物吸收光子，發生交聯（負膠）或分解（正膠）。
(5)顯影（Development）
手動操作：將曝光后的基片浸入顯影液（如TMAH），溶解掉可溶部分（正膠的曝光區或負膠的未曝光區）。
時間控制：顯影時間需精確（通常30~60秒），過長會導致圖形失真。
(6)硬烘（Post-Bake）
目的：增強光刻膠的耐蝕刻/離子注入能力。
條件：120~150°C，1~2分鐘（熱板或烘箱）。
5.典型應用場景
科研實驗室：大學或研究所的小批量微納加工。
MEMS制造：傳感器、微流控芯片的原型開發。
光掩模修復：局部圖形修正的低成本方案。
6.技術挑戰與發展
對準精度：人工操作限制套刻精度（通常≥1μm）。
均勻性：涂膠和顯影的手動步驟易引入厚度不均。
趨勢：向自動化升級（如添加視覺輔助對準系統），或與納米壓印（NIL）結合降低成本。
如果需要更具體的某類半自動光刻機（如接觸式或投影式）的細節，可進一步探討！
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