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NF3是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體，對硅和氮化硅的蝕刻，采用NF3和CF4＋O2的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對表面無污染。氫與NF3反應，在瞬間伴隨放出大量的熱，這就是NF3在高能化學激光器方面大量應用的原理。在高溫下，NF3與有機化合物反應常伴有爆炸性，操作時應十分謹慎。
三氟化氮（NF?）監測報警系統是專用于檢測NF?氣體濃度并實現安全聯鎖控制的工業安全設備，廣泛應用于半導體刻蝕工藝、光伏制造等場景。其核心由探測器、控制器及聯動模塊構成。
工作環境：
溫度：
催化燃燒：-40~+70℃；
電化學：-20~+50℃；PID：-20~+50℃；
紅外：-20~+50℃；
熒光法：-20~+50℃；
氧化鋯:-40℃~+700℃
壓力：86-110Kpa；（氧化鋯：≤0.6Mpa)
濕度：15%RH~95%RH（無凝露）
安裝要求：
探測高度：距地面0.3-1.5米（因NF?密度大于空氣）。
氣路連接：泵吸式采樣時，流量需穩定在0.4-0.6L/min。
維護校準：
每季度用標準氣體校準，偏差＞±5%需調整。
電化學傳感器壽命約2年，NDIR傳感器壽命＞5年。
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