薄膜測量系統是專門針對半導體、材料、生物醫學薄膜的實驗室分析及在線監測開發的,用于測量薄膜反射率及膜層厚度的綜合測量系統。 | ![]() |
參數指標:
- 光譜范圍 200~1100nm 測量速度 2 ms minimum
- 膜厚范圍 10nm~200μm基底厚度up to 50mm thick
- 分辨率 1nm 測量精度 better than 0.25%
典型應用領域:
- Semiconductor fabrication (PR, Oxide, Nitride..) 半導體制造
- Liquid crystal display (ITO, PR, Cell gap…..) 液晶顯示器
- Forensics, Biological films and materials 醫學、生物薄膜或材料
- Inks, Mineralogy, Pigments, Toners 印刷油墨,礦物學,顏料,碳粉
- Pharmaceuticals, Medial Devices 制藥
- Optical coatings, TiO2, SiO2, Ta2O5….. 光學薄膜
- Semiconductor compounds 半導體化合物
- Functional films in MEMS/MOEMS 功能薄膜材料
- Amorphous, nano and crystalline Si 非晶硅
AvaSoft-Thinfilm應用系統可以搭配多種應用系統附件,例如光纖多路復用器、顯微鏡、過真空裝置等附件,實現多點位同時測量、微區測量、過程監控等復雜領域的應用。 例如:AvaSoft-Thinfilm應用系統能夠實時監控膜層厚度,并且可以與其他AvaSoft應用軟件如XLS輸出到Excel軟件和過程監控軟件一起使用。
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