摘要：

該研究的詳細情況發表在《應用光學》2012 年 1 月 10 日號（總第 51 卷，第二期）上。

測定薄膜和多層鍍膜的光學參數（使用光學鍍膜的逆向工程）對于生產高質量的產品至關重要。這些數據可以給設計和生產環節提供反饋。對每一層依次進行評估后得到的逆向工程結果可以用來調整沉積參數，重校監測系統，改善對各層的厚度控制。

通常是使用紫外-可見-近紅外 (UV-Vis-NIR) 或傅里葉變換紅外 (FTIR) 分光光度法進行光學表征，對透明基板上的薄膜樣品垂直入射或接近垂直入射時的透射率 (T)和/或反射率 (R) 的數據進行分析。然而，基于垂直入射的透射率和反射率測量的光學表征以及基于垂直或接近垂直入射的透射率和反射率測量數據的可靠的逆向工程仍然十分困難。

摘要：

該研究的詳細情況發表在《應用光學》2012 年 1 月 10 日號（總第 51 卷，第二期）上。

測定薄膜和多層鍍膜的光學參數（使用光學鍍膜的逆向工程）對于生產高質量的產品至關重要。這些數據可以給設計和生產環節提供反饋。對每一層依次進行評估后得到的逆向工程結果可以用來調整沉積參數，重校監測系統，改善對各層的厚度控制。

通常是使用紫外-可見-近紅外 (UV-Vis-NIR) 或傅里葉變換紅外 (FTIR) 分光光度法進行光學表征，對透明基板上的薄膜樣品垂直入射或接近垂直入射時的透射率 (T)和/或反射率 (R) 的數據進行分析。然而，基于垂直入射的透射率和反射率測量的光學表征以及基于垂直或接近垂直入射的透射率和反射率測量數據的可靠的逆向工程仍然十分困難。