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半導(dǎo)體行業(yè)以硅等半導(dǎo)體材料為基礎(chǔ)，涵蓋集成電路、光電器件等領(lǐng)域，其中集成電路占比超 80%。該行業(yè)對(duì)超純水需求嚴(yán)苛，水質(zhì)直接影響生產(chǎn)質(zhì)量與性能，超純水監(jiān)測(cè)成為關(guān)鍵環(huán)節(jié)。
當(dāng)前半導(dǎo)體超純水標(biāo)準(zhǔn)遠(yuǎn)超國(guó)標(biāo)電子水最高要求，核心指標(biāo)包括：電阻率需達(dá) 18.2 兆歐（25℃）以上，確保離子含量極低；TOC（總有機(jī)碳）控制在 0.5ppb 以下，避免影響光刻精度；大于 0.05 微米的顆粒物每升不超 100 個(gè)；溶解氧需低于 1ppb，防止金屬離子氧化。
超純水應(yīng)用于晶圓沖洗、光刻工藝、刻蝕冷卻、機(jī)械拋光等全生產(chǎn)流程，還用于設(shè)備冷卻及實(shí)驗(yàn)室研發(fā)。監(jiān)測(cè)方法上，微粒子用液體粒子計(jì)數(shù)器檢測(cè)，TOC、電阻率、溶解氧等通過(guò)在線電化學(xué)儀器實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)，結(jié)合集成系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)水質(zhì)動(dòng)態(tài)管理。
監(jiān)測(cè)周期依生產(chǎn)需求和水質(zhì)變化而定，需定期采樣分析。超純水由自來(lái)水經(jīng) ACF、UF、RO、EDI 等多級(jí)處理，再通過(guò) TOC-UV 燈裝置將 TOC 降至 1ppb 以下。
隨著半導(dǎo)體元器件尺寸縮小和精度提升，水質(zhì)要求不斷提高。行業(yè)正通過(guò)提升檢測(cè)精度、應(yīng)用遠(yuǎn)程監(jiān)控等新技術(shù)，應(yīng)對(duì)更嚴(yán)苛的挑戰(zhàn)，以降低因水質(zhì)問(wèn)題導(dǎo)致的生產(chǎn)損耗，保障產(chǎn)品良率。
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