當前位置:上海奧法美嘉生物科技有限公司>>技術文章展示
當前位置:上海奧法美嘉生物科技有限公司>>技術文章展示
2025
02-252025
02-122025
02-032025
02-012025
01-212025
01-152025
01-152025
01-152025
01-132024
12-272024
12-262024
12-192024
12-122024
12-122024
12-072024
11-292024
11-292024
11-232024
11-23大顆粒(LPC)對拋光效率和良品率的影響 — TEOS層的CMP拋光研究
本文隸屬于一體化解決方案系列,全文共6324字,閱讀大約需要21分鐘引言:LPC對CMP制程工藝的影響隨著半導體行業的蓬勃發展,作為重要工藝段的CMP獲得了廣泛的關注。而作為此工藝段的重要原料-CMPslurry,更是諸多學者研究的對象。本文將重點結合Liu團隊2018年在ECS發布的論文:《EffectsofLargeParticlesonMRR,WIWNUandSurfaceQualityinTEOSChemicalMechanicalPolishingBasedonFA/OAlkaline2024
11-22以上信息由企業自行提供,信息內容的真實性、準確性和合法性由相關企業負責,化工儀器網對此不承擔任何保證責任。
溫馨提示:為規避購買風險,建議您在購買產品前務必確認供應商資質及產品質量。