紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)是全球shoukuan裝備有紫外LED光源的mask aligner,是掩膜對(duì)準(zhǔn)器中的理想冷光源紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)。能夠在4英寸工作面積上實(shí)現(xiàn)2微米微結(jié)構(gòu)，對(duì)準(zhǔn)精度高達(dá)3微米，廣泛用于光刻掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光，適用于微流體芯片，微電子，光學(xué)微結(jié)構(gòu),MEMS等微納器件的光刻制作。

桌面型紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)參數(shù)
分辨率：2微米
接收掩膜大小：5英寸 （2英寸可選）
接收襯底大小：2-4英寸， 50x50mm 到 100x100mm
系統(tǒng)可視分辨率：3微米 （1.5微米可選）
掩膜/襯底測(cè)量距離分辨率：0.5微米
theta襯底位移分辨率：5.10-4度
XYZ襯底位移分辨率：0.4微米（0.2微米可選）
波長(zhǎng)：365nm 或 405nm
功率密度：35mW/cm^2
曝光中襯底升溫：<1攝氏度
曝光時(shí)間：1秒到18小時(shí)
可編程曝光循環(huán)：>100個(gè)
尺寸：475x475x478mm
重量：55kg
觸摸屏：15.6寸彩色觸摸屏
電力要求：220V
用電功耗：180W