產品介紹

在半導體清洗工藝中，控制 NMP 濃度至關重要，而基于折光原理的CYR-E-NMP-在線NMP濃度檢測儀正是該領域的主流選擇之一，能有效助力半導體清洗提升良率。

半導體清洗需要控制 NMP濃度。NMP是高效的光刻膠剝離劑和清洗溶劑，濃度直接影響其溶解能力。濃度過低會導致清洗困難，出現光刻膠殘留；濃度過高則可能造成過度刻蝕或損傷敏感結構。此外，濃度波動會使晶圓批次間的清洗效果出現差異，成為良率波動的潛在因素。

CYR-E-NMP-在線NMP濃度檢測儀檢測NMP濃度具有諸多優勢。它能夠實時連續監測，提供每秒更新的濃度數據，及時反饋清洗槽或循環管路中 NMP 的實際狀態，快速響應異常情況，避免整批晶圓報廢。現代在線折光儀在 NMP 的典型工作濃度范圍內精度高，測量基于物理光學原理，不受溶液顏色、氣泡、懸浮物等干擾，穩定性優于電導率或 pH 法。儀表設計良好，無耗材，減少長期運營成本和維護頻次。

在半導體清洗中，NMP 濃度在線分析儀有多個典型應用點，如光刻膠剝離槽主槽或循環管路中 NMP 工作液濃度的實時監控與自動補液，清洗 / 漂洗槽監控 NMP 殘留或回收液濃度，NMP 回收系統監測蒸餾提純后 NMP 的純度，以及廢液處理前監控確保廢液濃度符合處理裝置要求。

產品參數