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公眾號：chem17
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MA100/150e-SUSS掩模對準光刻機2025-07-26
- 所在地：
- 上海上海市
- 公司名稱：
- 上海麥科威半導體技術有限
簡介： SUSSMicroTec為熱門化合物半導體工藝專門設計了一款新型光刻平臺：MA100/150eGen2掩模對準光刻機。化合物半導體工藝，是指諸如高亮發光二極管（HB-LEDs）、功率......
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μMLA-德國海德堡無掩模光刻機2025-07-26
- 所在地：
- 上海上海市
- 公司名稱：
- 上海麥科威半導體技術有限
簡介： μMLA無掩模光刻機是優良的無模板技術，建立在著名的μPG平臺之上，該平臺是臺式無模板系統。適合6寸及以下襯底。......
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CM300xi型-Formfactor探針臺2025-07-26
- 所在地：
- 上海上海市
- 公司名稱：
- 上海麥科威半導體技術有限
簡介： CM300xi探針臺可應對極其復雜的環境帶來的測量挑戰，例如在長時間和多種溫度下在小焊盤上進行無人值守的測試。在EMI屏蔽、光密和無濕氣的測試環境中，為各種應用......
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Beneq TFS 200/500-BENEQ原子層沉積系統2025-07-26
- 所在地：
- 上海上海市
- 公司名稱：
- 上海麥科威半導體技術有限
簡介： BeneqTFS200是有史以來最靈活的原子層沉積研究平臺，專為學術研究和企業研發而設計。BeneqTFS200經過專門設計，可最大限度地減少多用戶研究環境中可能發生的任何......
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TFS 500-Beneq原子層沉積系統2025-07-26
- 所在地：
- 上海上海市
- 公司名稱：
- 上海麥科威半導體技術有限
簡介： TFS500是薄膜鍍膜應用的理想選擇。作為第一個Beneq反應器模型，已被證明是用于深入研究原子層沉積研究和穩健批處理的多功能工具。TFS500是多項目環境的理想工具......
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SENTECH SI 591-等離子刻蝕機2025-07-26
- 所在地：
- 上海上海市
- 公司名稱：
- 上海麥科威半導體技術有限
簡介： SENTECHSI591緊湊型RIE等離子蝕刻系統具有負載鎖定功能，是氯基和氟基RIE的緊湊型解決方案。......
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CAPELLA系列-MPI 探針臺2025-07-26
- 所在地：
- 上海上海市
- 公司名稱：
- 上海麥科威半導體技術有限
簡介： CAPELLA系列探針臺支持從晶圓到封裝芯片級的所有LED產品類型（垂直芯片、橫向芯片、倒裝芯片）的電氣和光學表征。無論您是需要高性能、高性價比還是專業探針系統......
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SENTECH 集群系統-SENTECH等離子刻蝕2025-07-26
- 所在地：
- 上海上海市
- 公司名稱：
- 上海麥科威半導體技術有限
簡介： SENTECH集群系統包括等離子體蝕刻和/或沉積模塊、一個轉移室和一個真空負載鎖或盒式站。包括搬運機器人在內的轉移室有三到六個端口。最多可以使用兩個盒式磁帶站......
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