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公眾號：chem17
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GEN200-Veeco分子束外延2025-07-26
- 所在地：
- 上海上海市
- 公司名稱：
- 上海麥科威半導體技術有限
簡介： Veeco的GEN200®MBE系統是當今市場上具成本效益和高容量的多片4英寸生產MBE系統。該系統在用于泵浦激光器、VCSEL和HBT等設備的生長中提供吞吐量、長時間的加......
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Beneq P800-Beneq原子層沉積系統2025-07-26
- 所在地：
- 上海上海市
- 公司名稱：
- 上海麥科威半導體技術有限
簡介： BeneqP800專門設計用于涂覆復雜形狀的大零件或大批量的小零件。我們的客戶將P800用于光學鍍膜、半導體設備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用ALD的各種應......
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EIS-1500-ELIONIX 離子束刻蝕機2025-07-26
- 所在地：
- 上海上海市
- 公司名稱：
- 上海麥科威半導體技術有限
簡介： EIS-1500是由ELIONIX研發的108mm的大直徑光束，通過充分利用光束面內分布監控功能，可以實現各向異性干法蝕刻的離子束刻蝕機......
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SOPHI-400-ULVAC 離子注入機2025-07-26
- 所在地：
- 上海上海市
- 公司名稱：
- 上海麥科威半導體技術有限
簡介： 高能對應離子注入設備SOPHI-400可達2400KeV的高能離子注入設備。......
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EIS-200ERP-ELIONIX離子束刻蝕機2025-07-26
- 所在地：
- 上海上海市
- 公司名稱：
- 上海麥科威半導體技術有限
簡介： EIS-200ERP是由ELIONIX研發的離子束刻蝕機，緊湊和高性能，使用ECR離子束可以進行納米蝕刻和沉積，制品特微。......
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SOPHI-30-ULVAC離子注入機2025-07-26
- 所在地：
- 上海上海市
- 公司名稱：
- 上海麥科威半導體技術有限
簡介： 可對應低速高濃度的離子注入設備SOPHI-30低加速、高濃度對應的離子注入設備。......
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NEXDEP-Angstrom物理沉積系統2025-07-26
- 所在地：
- 上海上海市
- 公司名稱：
- 上海麥科威半導體技術有限
簡介： AE物理氣相沉積平臺NexdepPVD在經濟性和多功能性之間取得了平衡。它可以配備強大的工藝增強功能，而不會占用實驗室的所有空間或預算。您的研究目標、生產需求和/......
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LPCVD-2-低壓化學氣相沉積系統LPCVD2025-07-26
- 所在地：
- 上海上海市
- 公司名稱：
- 上海麥科威半導體技術有限
簡介： 低壓化學氣相沉積系統LPCVD簡介：1.滿足石墨烯和碳納米管研究的高溫和快速冷卻要求2.直徑200毫米的石英室3.內部石英管的設計便于拆卸和清洗4.基片尺寸可達直徑15......
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