Film Sense FS-8多波長橢偏儀

 Film Sense FS-8多波長橢偏儀采用壽命長 LED 光源和非移動 式部件橢偏探測器，可在操作簡單的緊湊型橢偏儀中實現可靠地薄膜測量。大多數厚度 0–1000 nm 的透明薄膜只需要簡單的 1 秒測量，就可以獲得準確的數據。還可以測量大多數樣品的光學常數和其他薄膜特性。

 Film Sense FS-8多波長橢偏儀 這款功能多波長橢偏儀，售價只是單一波長橢偏儀和光譜橢偏儀的中等水平。FS-8可應用于研究實驗室，超凈間，原位工藝腔體以及工業質量控制等諸多領域。

主要特點

• 4 個 LED 光源：藍色（465nm），綠色（525nm）， 黃色（580nm），紅色（635nm）

• 橢偏儀探測器中無可移動部件

• 良好的膜厚精密性，大多數樣品精密度高于 0.001nm（1 秒獲取數據），對于亞單原子薄膜精密度等于0.001nm

• 集成計算機，可實現對設備控制和數據分析，自帶瀏覽器界面，可兼容任何現代計算機，筆記本或平板電腦

優勢

• 壽命長（長達50,000小時），更換 LED 燈便宜，校準時間短或無需PM程序

• 快速測量（10ms 內獲得多波長數據）和長期性能穩定

• 測量精確，橢偏儀可以實現

• 軟件設置和維護簡單

標準 FS-8 配置

• 65°入射角

• 手動放置樣品和調節高度

• 樣品尺寸直徑200mm 和厚度23mm

• 樣品偏轉范圍+/-20

• 樣品上光束尺寸 5 x 12 mm

• 結構緊湊(180 x 400 mm) 和輕巧(4.8 kg)

性能

   FS-8多波長橢偏儀擅長測量膜厚范圍 0-1000nm 的透明單一薄膜的厚度和折射率。下表列出的是針對各種不同樣品，包括多層膜樣品，FS-8獲得的標準測量精密度和準確性數據。

應用領域

• 半導體行業：二氧化硅和氮化物，高介電和低介電材料，非晶和多晶材料，硅薄膜，光刻膠

• 光學薄膜行業：高和低指數薄膜，如 SiO2, TiO2, Ta2O5, MgF2 等

• 顯示屏行業：TCO（如 ITO），非晶硅薄膜，有機薄 膜（OLED 技術）

• 數據存儲行業：寶石，如碳膜

• 工藝研發：原位表征薄膜沉積（速率和光學常數） VS 工藝條件，可兼容 MBE, MOCVD, ALD 和磁控濺射等設備

• 化學和生物：在液體細胞實驗中探測亞單原子層材料吸附

• 工業：在線監測和控制膜厚

In Situ 在線測量功能

• 亞單原子膜厚精密度

• 多工藝條件下測定薄膜光學常數 n&k 和沉積速率，不會破壞真空

• 監測和控制多層膜結構沉積

• FS-API 界面，外置軟件控制（兼容 LabVIEW ）

• 兼容大多數薄膜沉積技術：磁控濺射，ALD，MBE，MOCVD，電子束蒸發等

In Situ在線測量

   產品包括 FS-8多波長橢偏儀，帶緊湊自動mapping樣品臺，可以實現快速，準確和可靠的薄膜均勻性測量。

特點和參數

• 4 段波長的橢偏數據（465, 525, 580, 635 nm），壽命長的LED光源，探測器內無可移動部件

• 可對 0-1000nm 透明薄膜進行準確的厚度測量

• 標準濃厚重復性 0.015 nm

• 集成聚焦探針，標準光斑尺寸 0.8 x 1.9 mm （其他尺寸 可選）

• 電動 Z 軸樣品臺自動準直

• 靈活掃描圖案編輯器

• 測量參數等值線繪制

聚焦光束選件

樣品上光束尺寸減小到 0.8 x 1.9 mm 或 0.3 x 0.7 mm

聚焦光束檢測

聚焦光束檢測系統包括一個 FS-8 多波長橢偏儀，帶光束聚焦光學器件和一個手動位移臺。該系統非常適合用于手動檢測和在圖案化半導體晶圓上進行質量控制測量。

可進行科研測量，帶小尺寸光斑和相機成像功能

手動位移臺，可容納 4’，5’，6’晶圓

樣品上光束尺寸 0.3 x 0.7 mm

樣品上光束位置視頻圖像

FS-XY150

標準晶圓 map 時間：60s（150mm 晶圓上取 49 個點）

結構緊湊：600x600 mm, 16 kg

樣品臺行程（X,Y）：150 x 150 mm, 精度：5 μm

FS-RT300

• 標準晶圓 map 時間：90s（300mm 晶圓上取 49 個點）

• 結構緊湊：400x500 mm, 22 kg

• 樣品臺行程：R (線性) ：150 mm, 精度：12 μm

• 角度（旋轉）360°，精度：0.1°