產地類別 | 進口 | 光譜范圍 | 190-885nmnm |
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應用領域 | 醫療衛生,化工,生物產業,電子/電池 |
HORIBA UVISEL Plus 橢圓偏振光譜儀
HORIBA UVISEL Plus 橢圓偏振光譜儀產品介紹:
HORIBA UVISEL Plus 相位調制型橢圓偏振光譜儀基于新版的電子設備,數據處理和高速單色儀,Fastacq技術能夠為用戶提供高分辨及快速的數據采集。FastAcq為薄膜表征特殊設計,雙調制技術使您可以獲得完整的測試結果。相位調制與消色差光學設計的結合提供了特別的膜厚測試效果。配備雙單色儀系統的特殊設計滿足用戶的期望值,通過模塊化的設計,更多的附件選擇,使得儀器使用能變得靈活。可以表征各種薄膜材料,包括介電薄膜、半導體、有機物、金屬、超材料和納米材料等。
HORIBA UVISEL Plus 橢圓偏振光譜儀產品優勢:
靈敏:測量速度有明顯提升
UVISEL Plus相位調制橢偏儀提供簡單快速的偏振調制,可用于各種樣品的測量,FastAcq快速采集技術使得測試靈敏度有了提升,從而能獲得界面簿膜和納米級低襯度襯底樣品的更多信息。
靈活
UVISEL Plus相位調制橢偏儀模塊化設計,可靈活拓展,以適應您的應用及預算需求。相較于其他供應商,UVISEL Plus相位調制橢偏儀系統的可升級性能將更好的滿足您未來的應用需求(190-2100nm),校準僅需幾分鐘。
簡單
AutoSoft軟件界面以工作流程直觀為特點,使得數據采集分析更加簡便,易于非專業人員上手操作。
快速
UVISEL Plus相位調制橢偏儀集成了FastAcq快速采集技術,可在3分鐘以內實現高分辨的樣品(190-2100nm),校準僅需幾分鐘。
HORIBA UVISEL Plus 橢圓偏振光譜儀產品測量原理:
HORIBA UVISEL Plus 橢偏儀是利用薄膜的光學特性進行膜厚測量的非接觸測量方法。基于偏振光反射或透射時的狀態變化來測量薄膜的厚度和折射率。當偏振光照射到薄膜表面時,反射光或透射光的偏振狀態會發生變化,這種變化依賴于薄膜的厚度、折射率以及入射光的偏振狀態和角度。通過分析這些變化,可以準確地推導出薄膜的厚度。
HORIBA UVISEL Plus 橢圓偏振光譜儀軟件:
AutoSoft軟件提供一鍵式測試分析。附帶即點即用的菜單庫幫您掌控一切橢偏分析。
定制菜單
創建您自己的菜單,進行數據采集,自動mapping和薄膜結構分析,一鍵即可實現。完備的材料及模型數據庫
AutoSoft軟件提供了大量的材料模型便于您對材料及膜系進行描述與設置。
多值計算
多值計算是HORIBA的算法,可快速準確的找到符合的結果。多值計算可以應用于膜厚以及其他色散參數的計算,能夠減化繁瑣的擬合步驟。
DeltaPsi2為橢偏全部功能服務
DeltaPsi2軟件提供了從測試到建模分析,輸出報告,以及自動操作的全部功能控制,無需多個軟件間切換,使日常測試更加便捷。
HORIBA UVISEL Plus 相位調制型橢圓儀技術特點:
信號采集過程無移動部件
光路中無增加元件
高頻調制50kHz
測試全范圍的橢偏角,Ψ(0-90,?(0-360)
HORIBA UVISEL Plus 橢圓偏振光譜儀常見應用:
反射及透射橢偏測試 | 粗糙度 | 界面 | 漸變層 |
周期結構 | 各向異性 | 合金 | 納米顆粒 |
帶隙計算 | n,k多值計算 | 散射測試 | 多入射角橢偏 |
HORIBA UVISEL Plus 橢圓偏振光譜儀行業應用:
介電薄膜 | 半導體 | 有機物 |
超材料 | 納米材料 | AndMore… |
HORIBA UVISEL Plus 橢圓偏振光譜儀產品參數:
UVISELPlus | UVISELPlusNIR | |
光譜范圍: | 190-885nm | 190–2100nm |
光源: | 75W氙燈 | |
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