ossila紫外臭氧清洗機(jī)UVO為實(shí)驗(yàn)室級(jí)表面處理設(shè)備，通過(guò)高功率紫外光源（主波長(zhǎng)185nm/254nm）激發(fā)臭氧反應(yīng)，實(shí)現(xiàn)高效無(wú)損傷清潔。系統(tǒng)操作流程簡(jiǎn)明：放置樣品于溫控托盤(pán)→關(guān)閉艙門(mén)→設(shè)置清洗時(shí)長(zhǎng)（≤59分59秒）→啟動(dòng)運(yùn)行，即可快速分解有機(jī)污染物為揮發(fā)性物質(zhì)，獲得超潔凈表面（接近原子級(jí)清潔度）。

核心功能特性

1. 廣譜清洗能力

• 適用基材：石英、硅、氧化硅、氮化硅、金、鎳、鋁、砷化鎵、礬土、玻璃、不銹鋼等

• 去除污染物：光刻膠、樹(shù)脂、人體皮膚油脂、溶劑殘留、表面油漬、助焊劑、單分子膜等

2. 多功能工藝應(yīng)用
   支持表面親水性改良、薄膜沉積預(yù)處理、AFM/STM探針清洗、光學(xué)元件清潔、表面氧化處理、紫外固化及滅菌消毒等9類(lèi)工藝。

3. 工程優(yōu)化設(shè)計(jì)

• 抽屜式樣品臺(tái)（直徑153mm，最大承載厚度12mm）

• LCD雙顯界面（實(shí)時(shí)顯示已用時(shí)間/剩余時(shí)間）

• 四燈管陣列配置（燈管尺寸150×15mm）

• 安全聯(lián)鎖機(jī)制（運(yùn)行中艙門(mén)鎖定防護(hù)）

ossila紫外臭氧清洗機(jī)UVO技術(shù)參數(shù)說(shuō)明

1. 紫外燈類(lèi)型：配置4支合成石英紫外燈管

2. 波長(zhǎng)輸出：雙波段185nm與254nm協(xié)同作用

3. 燈管尺寸：?jiǎn)沃С叽?50mm（長(zhǎng)）×15mm（直徑）

4. 驅(qū)動(dòng)參數(shù)：4000V高壓供電，工作電流30mA

5. 電源規(guī)格：標(biāo)準(zhǔn)版230V/0.6A/50Hz，可選配110V/1.2A/60Hz版本

6. 使用壽命：T80標(biāo)準(zhǔn)下2000小時(shí)，常規(guī)實(shí)驗(yàn)室使用周期8-10年

7. 設(shè)備尺寸：長(zhǎng)300mm×寬204mm×高227mm

8. 安全防護(hù)：三重保護(hù)（機(jī)械聯(lián)鎖、超溫報(bào)警、自動(dòng)斷電）

紫外臭氧清洗原理：

紫外臭氧清洗是一種光敏氧化過(guò)程，其中短波紫外線輻射被有機(jī)分子吸收以將其從表面分離  (通過(guò)與臭氧分子的化學(xué)反應(yīng))。這是一種非常好的技術(shù)， 用于清洗基材表面的樹(shù)脂，清潔 溶劑的殘留物，助焊劑，油以及表面消毒等，所有這些有機(jī)污染物都會(huì)影響樣品表面的性能。 與其他清潔技術(shù)(例如氧等離子體處理) 不同，紫外臭氧清洗不會(huì)導(dǎo)致樣品表面損傷。

紫外臭氧系統(tǒng)使用高強(qiáng)度紫外光源， 用 185nm 和 254nm 兩種波長(zhǎng)的光照射目標(biāo)表面。系統(tǒng) 內(nèi)存在的分子氧(O2) 通過(guò)波長(zhǎng)小于 200 nm 的紫外線輻射分離產(chǎn)生兩個(gè)氧自由基(O•)。這 些自由基中的每一個(gè)隨后可以與另外的分子氧反應(yīng)產(chǎn)生臭氧(O3)分子。未被殘余氧吸收 的 200nm 以上的 UV 輻射，會(huì)被基材表面上存在的有機(jī)化學(xué)污染物強(qiáng)烈吸收，一旦被吸收， 這會(huì)導(dǎo)致活性或有機(jī)自由基的產(chǎn)生。這些反應(yīng)性有機(jī)物質(zhì)在與不穩(wěn)定的臭氧分子接觸時(shí)，會(huì) 導(dǎo)致?lián)]發(fā)性物質(zhì)如 CO2 ，H2O ，N2  和短鏈有機(jī)化合物的形成。這些揮發(fā)性化合物可以很容 易地從表面上分解吸收， 保持基材的清潔。