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邁可諾技術(shù)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂?jī)x

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機(jī)

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

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超聲波清洗機(jī)

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

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接觸角測(cè)角儀

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環(huán)氧樹脂

光學(xué)試劑

鈣鈦礦材料

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    離心機(jī)

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    光譜儀

    太陽光模擬器

    干燥機(jī)

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    真空回流焊爐

    過濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測(cè)量單元

    太陽能電池IV測(cè)試系統(tǒng)

    太陽模擬器

    LED測(cè)量系統(tǒng)

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    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

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    鍍膜設(shè)備

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    共計(jì) 630 條產(chǎn)品信息

    產(chǎn)品圖片 產(chǎn)品名稱
    負(fù)膠顯影液PGMEA(丙二醇甲醚醋酸酯)
    負(fù)膠顯影液PGMEA(丙二醇甲醚醋酸酯)
    簡(jiǎn)單介紹:負(fù)膠顯影液PGMEA(丙二醇甲醚醋酸酯)作為負(fù)膠顯影工藝中的關(guān)鍵溶劑,在微電子制造中發(fā)揮著重要作用。
    產(chǎn)品型號(hào):   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-08-05
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    238正膠顯影液TMAH  四甲基氫氧化銨
    238正膠顯影液TMAH 四甲基氫氧化銨
    簡(jiǎn)單介紹:正膠顯影液TMAH 四甲基氫氧化銨 能選擇性地溶解未曝光的光刻膠,留下已曝光部分形成所需的圖形,從而將掩膜版上的圖案精確轉(zhuǎn)移到硅片等襯底材料上。同時(shí),它還可用于硅片的濕法刻蝕,對(duì)硅等材料進(jìn)行腐蝕加工,制作微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)結(jié)構(gòu),如加速度計(jì)、壓力傳感器等。
    產(chǎn)品型號(hào):238   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-08-05
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    200KPMMA 聚甲基丙烯酸甲酯
    200KPMMA 聚甲基丙烯酸甲酯
    簡(jiǎn)單介紹:PMMA 聚甲基丙烯酸甲酯 是一種用途廣泛的聚合物,適用于多種成像和非成像微電子應(yīng)用。它常被用作電子束直寫、X 射線和深紫外光刻工藝中的高分辨率正性光刻膠,也可用作晶圓減薄的保護(hù)涂層、鍵合粘合劑以及犧牲層。
    產(chǎn)品型號(hào):200K   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-08-05
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    184PDMS預(yù)聚物聚二甲硅氧烷與固化劑套件
    184PDMS預(yù)聚物聚二甲硅氧烷與固化劑套件
    簡(jiǎn)單介紹:PDMS預(yù)聚物聚二甲硅氧烷與固化劑套件。型號(hào):184,品牌:道康寧,產(chǎn)地:美國(guó),成分PDMS 和固化劑,混合比例:10:1。
    產(chǎn)品型號(hào):184   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-08-05
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    S111ITO玻璃基板(無圖案) 晶圓片
    S111ITO玻璃基板(無圖案) 晶圓片
    簡(jiǎn)單介紹:ITO玻璃基板(無圖案) 晶圓片,其厚度統(tǒng)一為1.1毫米,采用經(jīng)過拋光的鈉鈣浮法玻璃作為基底材料。
    產(chǎn)品型號(hào):S111   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-08-04
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    SPR955-CM光刻膠SPR955
    SPR955-CM光刻膠SPR955
    簡(jiǎn)單介紹:光刻膠SPR955 MEGAPOSIT SPR955-CM系列光刻膠是一種通用的、高分辨率的i-Line光刻膠,可用于0.35µm的前端和后端應(yīng)用。也與底層膠LOR/PMGI-SF搭配,做lift-off 工藝
    產(chǎn)品型號(hào):SPR955-CM   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-08-04
    參考價(jià):¥500 詢價(jià)留言
    AZ1500(90cp)AZ1500系列G線光刻膠
    AZ1500(90cp)AZ1500系列G線光刻膠
    簡(jiǎn)單介紹:AZ1500系列G線光刻膠高感光度標(biāo)準(zhǔn)G線正型光刻膠
    為廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域而優(yōu)化的高感光度G線正型光刻膠
    特征:
    1) 高感光度,高產(chǎn)出率
    2) 高附著性,特別為濕法刻蝕工藝改進(jìn)
    3) 廣泛應(yīng)用于*半導(dǎo)體行業(yè)
    產(chǎn)品型號(hào):AZ1500(90cp)   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-08-04
    參考價(jià):¥220 詢價(jià)留言
    AZ1500(38cp)AZ1500系列G線光刻膠
    AZ1500(38cp)AZ1500系列G線光刻膠
    簡(jiǎn)單介紹:AZ1500系列G線光刻膠高感光度標(biāo)準(zhǔn)G線正型光刻膠
    為廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域而優(yōu)化的高感光度G線正型光刻膠
    特征:
    1) 高感光度,高產(chǎn)出率
    2) 高附著性,特別為濕法刻蝕工藝改進(jìn)
    3) 廣泛應(yīng)用于*半導(dǎo)體行業(yè)
    產(chǎn)品型號(hào):AZ1500(38cp)   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-08-04
    參考價(jià):¥220 詢價(jià)留言
    AZ1500(20cp)AZ1500系列G線光刻膠
    AZ1500(20cp)AZ1500系列G線光刻膠
    簡(jiǎn)單介紹:AZ1500系列G線光刻膠高感光度標(biāo)準(zhǔn)G線正型光刻膠
    為廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域而優(yōu)化的高感光度G線正型光刻膠
    特征:
    1) 高感光度,高產(chǎn)出率
    2) 高附著性,特別為濕法刻蝕工藝改進(jìn)
    3) 廣泛應(yīng)用于*半導(dǎo)體行業(yè)
    產(chǎn)品型號(hào):AZ1500(20cp)   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-08-04
    參考價(jià):¥220 詢價(jià)留言
    AZ1500(4.4cp)AZ1500系列i線光刻膠
    AZ1500(4.4cp)AZ1500系列i線光刻膠
    簡(jiǎn)單介紹:AZ1500系列i線光刻膠高感光度標(biāo)準(zhǔn)G線正型光刻膠
    為廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域而優(yōu)化的高感光度G線正型光刻膠
    特征:
    1) 高感光度,高產(chǎn)出率
    2) 高附著性,特別為濕法刻蝕工藝改進(jìn)
    3) 廣泛應(yīng)用于*半導(dǎo)體行業(yè)
    產(chǎn)品型號(hào):AZ1500(4.4cp)   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-08-04
    參考價(jià):¥200 詢價(jià)留言
    s1800shipley s1813光刻膠
    s1800shipley s1813光刻膠
    簡(jiǎn)單介紹:shipley s1813光刻膠
    S1800系列, 正膠、紫外光刻膠。
    光源推薦:g-Line,也可以用于寬譜。
    單層厚度:0.4-2.7um。
    型號(hào):
    S1805 G2/S1813 G2/S1818 G2
    應(yīng)用:
    應(yīng)用于濕法腐蝕和干法刻蝕,也與底層膠LOR搭配,做lift-off 工藝。
    產(chǎn)品型號(hào):s1800   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-08-04
    參考價(jià):¥100 詢價(jià)留言
    硅片、單晶硅
    硅片、單晶硅
    簡(jiǎn)單介紹:硅片、單晶硅,用于工藝等同步輻射樣品載體、PVD/CVD鍍膜做襯底、磁控濺射生長(zhǎng)樣品、XRD、SEM、原子力紅外光譜、熒光光譜等分析測(cè)試基底、分子束外延生長(zhǎng)的基底、X射線分析晶體半導(dǎo)體光刻
    產(chǎn)品型號(hào):   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-07-29
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    Elcocarb B/DCSOLARONIX鈣鈦礦導(dǎo)電碳層漿料 B/DC
    Elcocarb B/DCSOLARONIX鈣鈦礦導(dǎo)電碳層漿料 B/DC
    簡(jiǎn)單介紹:瑞士進(jìn)口SOLARONIX ,鈣鈦礦導(dǎo)電碳層漿料,Elcocarb B/DC
    產(chǎn)品型號(hào):Elcocarb B/DC   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-07-09
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    Elcocarb B-L/SPSOLARONIX鈣鈦礦導(dǎo)電碳層漿料 B-L/SP
    Elcocarb B-L/SPSOLARONIX鈣鈦礦導(dǎo)電碳層漿料 B-L/SP
    簡(jiǎn)單介紹:瑞士進(jìn)口SOLARONIX ,鈣鈦礦導(dǎo)電碳層漿料,Elcocarb B-L/SP
    產(chǎn)品型號(hào):Elcocarb B-L/SP   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-07-09
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    Elcocarb B/SPSOLARONIX鈣鈦礦導(dǎo)電碳層漿料 B/SP
    Elcocarb B/SPSOLARONIX鈣鈦礦導(dǎo)電碳層漿料 B/SP
    簡(jiǎn)單介紹:瑞士進(jìn)口SOLARONIX ,鈣鈦礦導(dǎo)電碳層漿料,Elcocarb B/SP
    產(chǎn)品型號(hào):Elcocarb B/SP   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-07-09
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    Zr-Nanoxide ZT/SPSOLARONIX鈣鈦礦絕緣層漿料ZT/SP
    Zr-Nanoxide ZT/SPSOLARONIX鈣鈦礦絕緣層漿料ZT/SP
    簡(jiǎn)單介紹:瑞士進(jìn)口SOLARONIX ,鈣鈦礦絕緣層漿料,Zr-Nanoxide ZT/SP
    產(chǎn)品型號(hào):Zr-Nanoxide ZT/SP   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-07-09
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    Zr-Nanoxide ZT/DCSOLARONIX鈣鈦礦絕緣層漿料ZT/DC
    Zr-Nanoxide ZT/DCSOLARONIX鈣鈦礦絕緣層漿料ZT/DC
    簡(jiǎn)單介紹:瑞士進(jìn)口SOLARONIX ,鈣鈦礦絕緣層漿料,Zr-Nanoxide ZT/DC
    產(chǎn)品型號(hào):Zr-Nanoxide ZT/DC   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-07-09
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    Spiro-OMeTADSOLARONIX鈣鈦礦空穴傳輸層
    Spiro-OMeTADSOLARONIX鈣鈦礦空穴傳輸層
    簡(jiǎn)單介紹:瑞士進(jìn)口SOLARONIX ,鈣鈦礦空穴傳輸層材料,Spiro-OMeTAD
    產(chǎn)品型號(hào):Spiro-OMeTAD   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-07-08
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    Methylammonium IodideSOLARONIX鈣鈦礦前驅(qū)體
    Methylammonium IodideSOLARONIX鈣鈦礦前驅(qū)體
    簡(jiǎn)單介紹:瑞士進(jìn)口SOLARONIX ,鈣鈦礦前驅(qū)體,Methylammonium Iodide。
    產(chǎn)品型號(hào):Methylammonium Iodide   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-07-08
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    mr-NIL212FC-100nm納米壓印光刻膠 mr-NIL212FC 系列
    mr-NIL212FC-100nm納米壓印光刻膠 mr-NIL212FC 系列
    簡(jiǎn)單介紹:光刻膠mr-NIL212FC 系列——專為高精度軟紫外納米壓印設(shè)計(jì)的革命性解決方案
    產(chǎn)品核心優(yōu)勢(shì):
    快速固化技術(shù)(FC):專為 200 nm 以下微細(xì)結(jié)構(gòu) 優(yōu)化,即使低強(qiáng)度紫外光源(如 LED)也能實(shí)現(xiàn)高效固化,顯著提升生產(chǎn)效率。
    Excellence刻蝕穩(wěn)定性:相比標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)(mr-NIL210),對(duì) SiO? 等難刻蝕基材 的兼容性更強(qiáng),圖案轉(zhuǎn)移精度更高。
    PDMS 印章最佳搭
    產(chǎn)品型號(hào):mr-NIL212FC-100nm   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-07-02
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