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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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| 產品圖片 | 產品名稱 | |||
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mr-NIL212FC德國納米壓印光刻膠 簡單介紹：高分辨率：支持 ＜100 nm 結構壓?。ㄈ鏼r-NIL212FC可實現200nm柱陣列）。 量產適配： UV-NIL：室溫低壓（＜100 mbar），適合大面積和連續生產（R2R）。 T-NIL：熱塑性/熱固性 可選，平衡效率與穩定性。 工藝靈活性： 可搭配 LOR 光刻膠實現金屬納米結構剝離（Lift-off）。 通過 SiPOL 硅含量樹脂實現圖案放大，用于深槽刻蝕。 產品型號：mr-NIL212FC 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
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ET500 ET505 ET510雙組份環氧樹脂膠粘劑 簡單介紹：Permabond雙組份環氧樹脂膠粘劑適用于粘接各種材料。它們具有一系列不同的固化速度，并為要求苛刻的粘接應用提供高標準的性能。它們幾乎用于每個行業，從航空航天、汽車、電子和電動機，一直到食品接觸應用。 產品型號：ET500 ET505 ET510 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
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ES550 ES558 ES562單組分環氧樹脂膠粘劑 簡單介紹：熱固化環氧膠粘劑 Permabond單組分環氧樹脂膠粘劑適用于粘接各種材料。它們具有一系列不同的粘度，可帶或不帶金屬填料。Permabond環氧樹脂的開發旨在為要求苛刻的粘接應用提供高標準的性能。 產品型號：ES550 ES558 ES562 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
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EtchantsTransene二氧化硅 (SiO?) 蝕刻液 光刻膠 簡單介紹：Transene二氧化硅 (SiO?) 蝕刻液 光刻膠，高純度緩沖HF蝕刻劑，適用于熱生長或沉積的二氧化硅薄膜。Transene二氧化硅蝕刻劑是半導體應用的理想選擇，它能夠最小化蝕刻不足的情況，并具有廣泛的兼容性。緩沖氧化物蝕刻劑標準發貨時不含表面活性劑?？筛鶕筇砑臃荘FAS表面活性劑。 產品型號：Etchants 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
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??TransistKemLab光刻膠 簡單介紹：KemLab光刻膠 TRANSIST系列產品與大多數濕法蝕刻液具有出色的兼容性，為微電子應用提供可靠、高分辨率的解決方案。TRANSIST提供正性和負性兩種工作方式的光敏抗蝕劑， 產品型號：??Transist 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
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mr-NIL200-100nm納米壓印光刻膠 mr-NIL200 系列 簡單介紹：納米壓印膠 mr-NIL200 系列——專為高精度圖案轉移設計的紫外光固化解決方案。自粘附配方，無需底涂，專為硬質印章（石英/OrmoStamp®）設計。 產品型號：mr-NIL200-100nm 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
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mr-NIL210-100nm納米壓印光刻膠mr-NIL210系列 簡單介紹：mr-NIL210系列是一款專為軟紫外納米壓印技術（soft UV-NIL）設計的光固化納米壓印膠，特別適配于PDMS類軟質印章材料（推薦使用Shin-Etsu的KER-4690 PDMS印章）。其高精度、易操作的特性，使其成為圖案轉移工藝中理想的蝕刻掩模材料。 產品型號：mr-NIL210-100nm 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
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PKP-308PIKemLab負性光刻膠 簡單介紹：美國KemLab負性光刻膠 PKP-308PI 具有改進的分辨率、附著力、耐蝕刻性、低針孔密度，是負性光刻膠中綜合性能最佳的選擇。在使用過程中無需對光刻膠進行膜過濾。可實現微米級別的分辨率，且在生產中光刻膠工藝能保持高度可重復性。 產品型號：PKP-308PI 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
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HARE SQ美國KemLab負性光刻膠 簡單介紹：美國KemLab負性光刻膠 HARE SOTM是一種基于環氧樹脂的負型光阻，專為聚合物MEMS、微流體、微機械加工以及其他微電子應用而設計。 產品型號：HARE SQ 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
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PermabondUV670紫外光固化粘合劑 簡單介紹：PermabondUV670紫外光固化粘合劑 特點和優勢 按需固化 柔韌，抗沖擊性好 低功率燈快速固化 100%固體，無溶劑 對金屬和玻璃的附著力 描述 PERMABOND UV670是一種單組分、快速固化的紫外光固化粘合劑。固化的粘合劑堅韌、柔韌并具有優異的抗沖擊性。 Permabond UV670非常適合將玻璃粘合到金屬和金屬化塑料上。 產品型號：PermabondUV670 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
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Permabond紫外光固化粘合劑 簡單介紹：Permabond紫外光固化粘合劑 Permabond UV固化膠是單組分、按需固化的膠粘劑，適用于多種基材的粘接。在暴露于UV光后，Permabond U固化膠會在數秒內固化至高強度。 Permabond紫外線固化粘合劑適用于各種應用。 它們對于玻璃與玻璃或玻璃與金屬的粘合是的，并且對于承載接頭形成非常高強度的粘合，例如在玻璃家具和陳列柜中發現的那些。 Permabond紫外線固化粘合劑 產品型號： 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
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KLT5300美國KemLab正性光刻膠 簡單介紹：美國KemLab正性光刻膠 KLT 5300是一種專為i-Line、g-Line和寬帶應用優化的正型光阻。KLT 5300具有高靈敏度和高吞吐量，適用于集成電路制造。 產品型號：KLT5300 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
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KLT 6000KemLab 正性光刻膠 簡單介紹：KemLab 正性光刻膠 KLT 6000 ，適用于 i-Line、寬帶或 g-Line 曝光。 產品型號：KLT 6000 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
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VS160UG II德國進口budatec真空回流焊爐立式 簡單介紹：德國進口budatec真空回流焊爐立式 面向半導體與光伏精密制造需求開發，集成真空焊接/燒結雙工藝模式，搭載±1.5℃超精度溫控模塊與160mm²加熱平臺，實現3K/s級溫變速率的動態熱管理。德國原廠制造的智能化系統兼容多元工藝氣體環境，通過觸控式人機界面實現全流程數字化管控，同步優化加工效率與設備維保便捷性 產品型號：VS160UG II 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
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VS160UG德國進口budatec回流焊爐立柜式 簡單介紹：德國進口budatec回流焊爐立柜式專為半導體與光伏行業設計，提供高精度溫控和高效能加工。核心功能包括真空焊接和燒結，支持多種工藝氣體適配。設備采用德國柏林制造，具備160×160mm²加熱區域及±1.5℃控溫精度，支持3K/s加熱/冷卻速率。配備智能工藝控制系統及圖形化界面，確保穩定運行并簡化維護流程。 產品型號：VS160UG 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
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VS160S II德國進口budatec回流焊爐桌面式 簡單介紹：德國進口budatec回流焊爐桌面式，專用于半導體器件與光伏組件的精密焊接及金屬燒結工藝。該設備搭載多通道獨立溫控模塊，配備每秒3開爾文溫變速率的快速熱循環系統，集成可編程氣體流量控制器，實現全流程數字化控制。系統配置160mm²標準工藝臺面，支持450℃峰值焊接溫度，兼容氮氣保護與N?/H?二元工藝氣體環境，其圖形化操作界面與智能維保預警系統可保障高 產品型號：VS160S II 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
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VS160S德國進口budatec真空回流焊爐 簡單介紹：德國進口budatec真空回流焊爐，專為半導體和光伏器件的焊接與燒結工藝設計。具備高精度溫控、快速升降溫（3K/s）及靈活的氣體流量編程控制，支持全數字化工藝管理。設備采用160×160mm²工作臺，最高焊接溫度達450℃，并提供氮氣及氮氫混合氣支持。其多通道溫控、圖形化界面及智能維護功能確保高效穩定運行，適用于精密焊接需求。 產品型號：VS160S 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
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L2006ossila浸涂機Dip Coating 簡單介紹：ossila浸涂機Dip Coating是一款專為研究人員設計的高性能薄膜涂覆設備，具有高精度電機、平穩運動及廣泛的基材兼容性等優點。其速度范圍廣，從0.01mm/s到50mm/s，確保了不同厚度的涂層需求。 產品型號：L2006 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
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L2006Aossila浸涂機Dip Coater 簡單介紹：ossila浸涂機Dip Coater通過0.01-50mm/s精密調速（速率重復性±0.01%@1mm/s）結合嵌入式控制軟件（10組×20程序），實現100mm行程內±0.3%運動精度，緊湊結構（200×300×350mm）集成碰撞防護與99小時59分連續運行能力，適配多元基材涂覆需求。 產品型號：L2006A 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
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L2002ossila紫外臭氧清洗機UV Ozone Cleaner 簡單介紹：ossila紫外臭氧清洗機UV Ozone Cleaner搭載4支150mm合成石英燈管（185nm/254nm雙波段輸出），通過紫外光解氧分子生成臭氧，實現有機污染物的非接觸式氧化分解。系統配備153mm直徑可溫控樣品臺，支持12mm厚度內各類基材處理。 產品型號：L2002 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
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