光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。

中文名稱：雙［4-(1,1-二甲基乙基)苯基］碘鎓與三氟甲磺酸鹽

英文名 Bis(4-tert-butylphenyl)iodoniumtrifluoromethanesulfonate

別稱：雙(4-叔丁苯基)碘鎓三氟甲磺酸鹽

CAS號：84563-54-2

分子量：542.394

密度：N/A

沸點：N/A

分子式：C21H26F3IO3S

熔點：237ºC(lit.)

MSDS：N/A

閃點：N/A

AZ4620光刻膠

AZ5214光刻膠

KMPR 1000系列  負性光刻膠

PermiNex 1000系列  負性光刻膠

SU-8 3050 負性光刻膠

SU-8 2002 2015 2050光刻膠

SU-8 3010 負性光刻膠

SU-8 3035 3025光刻膠

SU-8 3050 3035 3010負性光刻膠

AR-P617 電子束光刻膠

電子束及深紫外光刻膠ma-N 2400系列

電子束光刻膠 CABL-9000C 

光刻膠SPR955系列 正性

電子束光刻膠 ma-N 2400 MR-EBL 6000系列

光刻膠 SPR 955

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