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刻蝕顯影清洗系統

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更新時間：2025-06-06 21:00:06

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微組裝系統: WB-200 半自動引線鍵合機

Deposition沉積系統: AT-400原子層沉積

Megasonic Clean /兆聲清洗系統: 批量型兆聲清洗系統

測量儀器: 聲表面波SAW功率發生器

ECOPIA/韓國: HMS-3300霍爾效應測試儀 HMS-3000霍爾效應測試儀

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Thin Film薄膜沉積系統: 高密度化學氣相沉積系統 PECVD沉積

美國杜邦Dupont: 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-CMP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Etch Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 LED, TSV, & WLP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Patterning Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Emerging Cleans

Ethcing/等離子蝕刻系統: 等離子刻蝕ICP

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JFP microtechnic/法國: 檢測相機返工工作站激光疊片機 / 拆片機劃刻器 MPT手動拉力測試儀焊線機芯片鍵合機

OAI/美國: Model 32 UV LED 光源 Model 30 準直紫外光源及曝光系統 MCP-T710 電阻儀 MCP-T380通用便攜式電阻率儀 Model 659 紫外線光強與能量計 Model 308 紫外線光度計太陽能電池高性能測試夾具太陽能功率計集成式 IV 光伏測試系統 AML 原位對準晶圓鍵合機 CPV 聚光太陽模擬器 AAA 標準太陽模擬器 Model 6020 全自動掩模曝光機 Model 6000 生產型掩膜曝光機 Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機 Model 800E 紫外掩膜曝光機 Model 212 紫外掩膜曝光機 Model 200 紫外掩膜曝光機

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產品簡介詳細介紹

刻蝕顯影清洗系統廠家提供詳細的特點,應用信息。

　　刻蝕顯影清洗系統是一套脫機系統，在一個封閉的清洗室內清洗網紋輥，并由計算機控制。該系統包含一個回收裝置，去除廢料，清洗介質的表面，并允許塑料介質可以重復多次使用。該系統具有分別處理窄滾筒、中等幅寬滾筒和寬至95英寸的滾筒的機構，可以滿足各種不同的印刷需求。

　　刻蝕顯影清洗系統特點:

　　1. CIP在位清洗系統的經濟運行成本低，結構緊湊，占地面積小.安裝.維護方便，能有效地對缸罐容器及管道等生產設備進行就地清洗，其整個清洗過程均在密閉的生產設備，缸罐容器和管道中運行，從而大大減少了二次污染機會。

　　2. 可根據生產需要分為一路至四路。尤其是二路及二路以上，既能分區同時清洗同一個或二個以上區域，也能在生產過程中邊生產邊清洗。這樣在生產時就大大縮短了CIP清洗的全自動CIP清洗系統時間。

　　3. 體外循環系統，可有效減少能耗。

　　4. 回水系統，可有效減少CIP用水。

　　5. 尤其是，能對清洗液進行自動檢測.加液.排放.顯示與調整，對其運行可靠，自動化程度高，操作簡單，CIP清洗效果好，因而更符合現代大規模流體藥品.食品加工工藝的衛生要求及生產環境要求。

　　被廣泛的用于飲料、乳品、果汁、果漿、果醬、酒類等機械化程度較高的食品飲料生產企業中。就地清洗簡稱CIP，又稱清洗定位或定位清洗（cleaning in place）。就地清洗是指不用拆開或移動裝置，即采用高溫、高濃度的洗凈液，對設備裝置加以強力作用，把與食品的接觸面洗凈,對衛生級別要求較嚴格的生產設備的清洗、凈化。

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