雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：80000
雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄...
桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍 參考價(jià)：80000
桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍是一種物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過磁場(chǎng)增強(qiáng)離子化效率，從而實(shí)現(xiàn)...
分體式高真空雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：80000
分體式高真空雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)...
下置四靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：80000
下置四靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜
小型臺(tái)式單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：60000
小型臺(tái)式單靶磁控濺射鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
粉體磁控濺射包覆機(jī) 參考價(jià)：50000
粉體磁控濺射包覆機(jī)是通過粉未在濺射腔室內(nèi)的旋轉(zhuǎn)，以達(dá)到粉未表面均勻包覆的效果。腔室可旋轉(zhuǎn)、傾斜，能快速出料。
單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：50000
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：120000
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)...
三靶向上磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：250000
三靶向上磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該磁控...
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：200000
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設(shè)備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質(zhì)的膜層
帶過渡艙三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：250000
本設(shè)備為帶過渡艙三靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
三靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：250000
三靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該磁控...
粉末磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：220000
粉末磁控濺射鍍膜儀是一種用于在基材表面沉積薄膜的設(shè)備，利用磁控濺射技術(shù)將粉末狀的靶材轉(zhuǎn)化為薄膜覆蓋在基材上
三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：350000
三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該磁控濺射...
桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：120000
桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過磁場(chǎng)增強(qiáng)離子化效率，從...
臥式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：250000
臥式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，...
高真空4英寸三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：350000
高真空4英寸三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)...
下置四靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：350000
下置四靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款...
桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：120000
桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)...
桌面型單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：120000
桌面型單靶直流磁控濺射鍍膜儀是一種物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過磁場(chǎng)增強(qiáng)離子化效率，從而實(shí)現(xiàn)...
分體式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：250000
分體式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)...
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：250000
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一...
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：120000
雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制...
桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍 參考價(jià)：120000
桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍是一種物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過磁場(chǎng)增強(qiáng)離子化效率，從而實(shí)現(xiàn)...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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