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超高溫大容量非自耗型真空電弧爐 參考價：86000
超高溫大容量非自耗型真空電弧爐是我公司根據科研單位實驗要求精心研發設計的一款主要用于：熔煉難熔金屬及合金，可進行冶煉、提純、脫氧、除雜等
三靶等離子濺射鍍膜儀（基礎型） 參考價：68000
三靶等離子濺射鍍膜儀（基礎型），采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產生熱損傷。
三靶等離子濺射鍍膜儀（標準型） 參考價：86000
三靶等離子濺射鍍膜儀（標準型），采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產生熱損傷
雙靶等離子濺射鍍膜儀（標準型） 參考價：68000
雙靶等離子濺射鍍膜儀（標準型），采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產生熱損傷
半導體等離子濺射鍍膜儀 參考價：53000
半導體等離子濺射鍍膜儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產生熱損傷。
單靶等離子濺射鍍膜儀（基礎型） 參考價：38000
本型號單靶等離子濺射鍍膜儀（基礎型），采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產生熱損傷。該小型...
不銹鋼腔體勻膠機旋涂儀 參考價：98000
不銹鋼腔體勻膠機旋涂儀是一種用于制備薄膜的儀器，廣泛應用于材料學、物理學、化學等領域。它的主要工作原理是在高速旋轉的基片上，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂...
大型勻膠機旋涂儀 參考價：120000
本設備為大型勻膠機旋涂儀，采用大功率伺服電機，配合高精度驅動器，可實現對大尺寸樣品的精確勻膠實驗
不銹鋼腔體八英寸勻膠機旋涂儀 參考價：9800
不銹鋼腔體八英寸勻膠機旋涂儀可以將液態或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應用于光刻膠旋涂、生物培養基制作、溶膠凝膠法制作高分子薄膜等領...
真空程控型勻膠機旋涂儀 參考價：面議
真空程控型勻膠機旋涂儀主要適用于液體、膠狀體、可流動糊狀體等薄膜材料的使用，能夠在瞬間提供可控的高速轉數，迅速使液體、膠狀體等材料在襯底上均勻地形成薄膜。CY-...
真空防腐型勻膠機旋涂儀 參考價：8600
真空防腐型勻膠機旋涂儀是內腔真空密封，采用承壓式內腔和蓋子，保證內腔環境可以抽真空至-0.06MPa以上負壓下進行勻膠處理。CY-S-V真空防腐型勻膠機有真空和...
真空加熱型勻膠機旋涂儀 參考價：8900
真空加熱型勻膠機旋涂儀是加熱型勻膠機基礎上增加內腔抽真空功能，保證基片在加熱和真空負壓狀態下進行勻膠作業。真空加熱型勻膠機在真空負壓狀態可以進行邊加熱邊旋轉的控...
可控溫型勻膠機旋涂儀 參考價：8600
可控溫型勻膠機旋涂儀能夠對轉盤進行**控溫，基片接觸式加熱，以實現在不同溫度下的控溫勻膠處理。可控溫型勻膠機采用的旋轉熱盤控溫結構系統，控溫精度高、重復性好、技...
耐腐蝕柜式勻膠機旋涂儀 參考價：9500
耐腐蝕柜式勻膠機旋涂儀采用全PP耐腐蝕全柜式設計，滿足工業級別手動勻膠需求，配備自動點膠功能確保了勻膠和點膠過程中的重復性。耐腐蝕柜式勻膠機適用于半導體、硅片、...
大功率程控伺服勻膠機旋涂儀 參考價：9000
大功率程控伺服勻膠機旋涂儀是一種小型、靈活和經濟的旋轉勻膠設備，它可以實現在價值百萬美元的設備上才可能達到的穩定性和均勻性，大功率程控伺服勻膠機能夠處理12寸以...
加熱型勻膠機旋涂儀 參考價：12000
加熱型勻膠機旋涂儀主要利用離心涂覆原理將液態或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，該工藝在材料研究領域有著廣泛的應用
小型勻膠機旋涂儀 參考價：6800
這款小型勻膠機旋涂儀是我公司的一款結構緊湊，體積小巧的微型勻膠機，可以涂膠處理小碎片至4英寸圓晶尺寸底物，使用工業級直流馬達和單片機控制。這款小巧型勻膠機簡單易...
精密半導體旋涂儀勻膠機 參考價：6800
此款精密半導體旋涂儀勻膠機共有兩種型號：CY-AC200-SE是標準型號，CY-AC200-PE是**型號；CY-AC200精密勻膠機是一種小型、靈活和經濟的旋...
凈化型4寸勻膠機旋涂儀 參考價：69500
凈化型4寸勻膠機旋涂儀廣泛用于半導體硅片的勻膠鍍膜等，例如對大型晶圓、芯片、晶片等進行工藝制版時，可用此凈化型勻膠機進行各種膠體的表面涂覆或光刻工藝勻膠；是集成...
高速旋涂儀勻膠機 參考價：6500
高速旋涂儀勻膠機適用于涂膠和甩干等工藝，它采用變頻電源控制器，通過設定鍵可隨意調節轉速與時間，啟動快、轉速穩定、時間準確，并可長時間連續穩定工作。使用該高速勻膠...
12寸防腐勻膠機旋涂儀 參考價：8900
12寸防腐勻膠機旋涂儀可以將液態或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應用于光刻膠旋涂、生物培養基制作、溶膠凝膠法制作高分子薄膜等領域
全自動勻膠機旋涂儀 參考價：面議
全自動勻膠機旋涂儀是一種基于離心力原理的精密涂覆設備，通過程序化控制基片旋轉速度、加速度和時間，實現液體材料（如光刻膠、PDMS膠等）在基片表面的均勻分布，形成...
1000MM勻膠機旋涂儀 參考價：168000
1000MM勻膠機旋涂儀是一種用于制備薄膜的儀器，廣泛應用于材料學、物理學、化學等領域。它的主要工作原理是在高速旋轉的基片上，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地...
透明亞克力旋涂儀勻膠機 參考價：6800
透明亞克力旋涂儀勻膠機經過小型化設計，整體采用鋁合金結構，腔體選用透明亞克力，外觀美觀堅固。儀器采用的精密電機，*高轉速能達到10000轉/秒；控制依靠按鍵和高...
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