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桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍 參考價：156200
桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍是一種的物理氣相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，通過磁場增強離子化效率，從而實...
桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍 參考價：185000
桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍是一種的物**相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，通過磁場增強離子化效率，從而實...
D型腔體單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：380000
D型腔體單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等
矩形腔室磁控濺射鍍膜儀 參考價：458000
矩形腔室磁控濺射鍍膜儀是一種利用磁控濺射技術進行薄膜沉積的高精度設備.其核心原理是通過在真空環境下，利用高能離子轟擊靶材，使靶材原子或分子濺射出來并沉積在基片表...
桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：59000
桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種緊湊型鍍膜設備，采用磁控濺射技術在基片表面沉積薄膜
桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體 參考價：89000
本設備為桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
旋轉粉末磁控濺射鍍膜儀 參考價：195600
旋轉粉末磁控濺射鍍膜儀主要用于粉體材料、顆粒材料的包覆制備,用于改善粉體或顆粒的表面性能、分散性能、穩定性能，賦予其導電性、耐腐蝕性等新功能。
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：169800
雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等
分體式單靶磁控鍍膜儀 參考價：269500
本設備為分體式單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。
帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀 參考價：389500
帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀為我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等...
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：259800
雙靶磁控濺射鍍膜儀采用靶下置樣品臺在上方的布局。雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)兩個靶位，直流射頻雙電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜...
?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀 參考價：198000
?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，尤其是實驗室SEM樣品制備，?雙靶直流磁控鍍膜儀采用旋轉加熱樣...
桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀 參考價：158000
桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
磁控濺射系統 參考價：390000
磁控濺射系統主要由進樣室、濺射室、出樣室、基片傳遞機構、抽氣及真空測量系統、氣路系統、電控系統、安裝機臺等部分組成。此外,CY-in-line磁控濺射升級后，可...
單室磁控濺射鍍膜儀 參考價：210000
單室磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。磁控濺射鍍膜儀可廣泛應用于大專院校、...
高真空磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
高真空磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。真空磁控濺射鍍膜儀廣泛應用于科...
可程控磁控濺射鍍膜儀 參考價：265000
可程控磁控濺射鍍膜儀為單腔室結構，主要由濺射真空室、磁控濺射靶、離子轟擊、公轉基片臺、光加熱系統、濺射電源、工作氣路、真空獲得系統、安裝機臺、真空測量、水冷卻及...
真空磁控濺射鍍膜系統 參考價：189000
真空磁控濺射鍍膜系統主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（三個靶）、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。磁...
小型單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：100000
小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有小型化、標準化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基板的大小自主選...
單靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 參考價：212100
單靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀可選配功率從500W-1000W的直流電源。
單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻） 參考價：168000
單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻）我公司研發的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀可選配500W-1000W不等的射頻電源。
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 參考價：面議
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流)高速低溫濺射。雙靶磁控濺射鍍膜儀可選配功率從500W-1000W不等的直流電源。
雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻) 參考價：260000
雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)高速低溫濺射實驗室專用鍍膜儀，雙靶磁控濺射鍍膜儀可選配功率從500W-1000W不等的射頻電源。
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻) 參考價：198000
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)典型的高速低溫濺射實驗室專用鍍膜儀，磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)可選配直流電源和射頻電源，功率從500W-1000W不等。
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